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Dernières nouvelles : Le MIIT promeut des machines de lithographie DUV domestiques avec une précision de superposition ≤ 8 nm

Les directives 2024 du MIIT encouragent la localisation complète des procédés de fabrication de puces 28 nm et plus, une étape technologique cruciale. Parmi les avancées majeures figurent les machines de lithographie KrF et ArF, qui permettent la réalisation de circuits de haute précision et renforcent l'autonomie de l'industrie. Un contrôle précis de la température est essentiel pour ces procédés, et les refroidisseurs d'eau TEYU CWUP garantissent des performances stables dans la fabrication de semi-conducteurs.

Ces derniers mois, le ministère de l'Industrie et des Technologies de l'information (MIIT) a publié les « Lignes directrices pour la promotion et l'application des premiers équipements techniques majeurs (édition 2024) ». Ces lignes directrices ouvrent la voie à la localisation complète de la fabrication de puces matures pour les nœuds supérieurs à 28 nm !

Bien que la technologie 28 nm ne soit pas à la pointe de la technologie, elle joue un rôle crucial en tant que ligne de démarcation entre les puces d'entrée et de milieu de gamme et celles de milieu et de haut de gamme. Outre les processeurs, les GPU et les puces d'IA avancés, la plupart des puces industrielles utilisent des technologies 28 nm ou supérieures.

 Le MIIT promeut des machines de lithographie DUV domestiques avec une précision de superposition ≤ 8 nm

Principe de fonctionnement : Progrès dans la lithographie ultraviolette profonde

Les machines de lithographie KrF (fluorure de krypton) et ArF (fluorure d'argon) appartiennent à la catégorie des lithographies ultraviolettes profondes (DUV). Toutes deux utilisent des longueurs d'onde lumineuses spécifiques projetées par des systèmes optiques sur la couche de résine photosensible d'une plaquette de silicium, transférant ainsi des motifs de circuits complexes.

Machines de lithographie KrF : utilisent une source lumineuse de longueur d'onde de 248 nm, atteignant des résolutions inférieures à 110 nm, adaptées à divers processus de fabrication de circuits intégrés.

Machines de lithographie ArF : utilisent une source lumineuse de longueur d'onde de 193 nm, offrant une résolution plus élevée pour les technologies de processus inférieures à 65 nm, permettant la fabrication de circuits plus fins.

Importance technologique : modernisation et autonomie de l'industrie

Le développement de ces machines de lithographie marque une étape majeure dans l’avancement de la fabrication de semi-conducteurs et dans l’atteinte de l’autonomie industrielle :

Avancées techniques : La création réussie de machines de lithographie KrF et ArF met en évidence des progrès significatifs dans la technologie de lithographie haut de gamme, fournissant un support technique solide pour la fabrication de semi-conducteurs.

Mise à niveau de l'industrie : les machines de lithographie de haute précision permettent la production de circuits intégrés plus complexes et plus performants, stimulant l'innovation tout au long de la chaîne de valeur des semi-conducteurs.

Sécurité économique et nationale : En réduisant la dépendance à la technologie étrangère, ces machines renforcent l'autosuffisance de l'industrie nationale des semi-conducteurs, renforçant ainsi la sécurité économique et industrielle.

Eau Refroidisseur : la clé de la stabilité des performances des machines de lithographie

Un contrôle précis de la température est essentiel pour garantir la qualité et le rendement du processus de lithographie. Les refroidisseurs d'eau, composants essentiels des systèmes de refroidissement, jouent un rôle essentiel :

Exigences de refroidissement : les machines de lithographie sont extrêmement sensibles aux fluctuations de température pendant l'exposition, ce qui nécessite des refroidisseurs à eau qui fournissent un contrôle de température très précis et stable.

Fonctions des refroidisseurs : En faisant circuler l'eau de refroidissement, les refroidisseurs dissipent efficacement la chaleur générée pendant le fonctionnement, maintenant l'équipement laser dans une plage de température optimale et garantissant la précision et la fiabilité du processus de lithographie.

 Laser ultrarapide refroidisseur CWUP-20ANP avec une stabilité de 0,08℃

TEYU Refroidisseur propose des solutions de refroidissement professionnelles pour les machines de lithographie

Les refroidisseurs laser ultrarapides de la série TEYU CWUP assurent un contrôle précis et stable de la température des machines de lithographie. Le modèle CWUP-20ANP refroidisseur atteint une stabilité de température de ± 0,08 °C, offrant un refroidissement hautement efficace pour une fabrication de précision.

Dans le domaine précis de la fabrication de semi-conducteurs, les machines de lithographie sont essentielles au transfert de motifs de microcircuits. Grâce aux progrès technologiques, les machines de lithographie au fluorure de krypton et au fluorure d'argon sont devenues des atouts majeurs pour le développement de ce secteur grâce à leurs excellentes performances.

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