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Dernières nouvelles : Le MIIT promeut des machines de lithographie DUV domestiques avec une précision de superposition ≤ 8 nm

Les directives 2024 du MIIT encouragent la localisation complète du processus de fabrication de puces 28 nm+, une étape technologique cruciale. Les principales avancées comprennent les machines de lithographie KrF et ArF, permettant des circuits de haute précision et renforçant l’autonomie de l’industrie. Un contrôle précis de la température est essentiel pour ces processus, les refroidisseurs d'eau TEYU CWUP garantissant des performances stables dans la fabrication de semi-conducteurs.

Ces derniers mois, le ministère de l'Industrie et des Technologies de l'information (MIIT) a publié les « Lignes directrices pour la promotion et l'application des premiers équipements techniques majeurs (ensemble) (édition 2024) ». Cela ouvre la voie à la localisation complète du processus de fabrication de puces matures pour les nœuds supérieurs à 28 nm !

Bien que la technologie 28 nm ne soit pas à la pointe de la technologie, elle revêt une importance considérable en tant que ligne de démarcation entre les puces bas de gamme et milieu de gamme et les puces milieu de gamme et haut de gamme. Outre les processeurs, les GPU et les puces d’IA avancés, la plupart des puces de qualité industrielle s’appuient sur des technologies de 28 nm ou supérieures.

MIIT Promotes Domestic DUV Lithography Machines with ≤8nm Overlay Accuracy

Principe de fonctionnement : Progrès dans la lithographie ultraviolette profonde

Les machines de lithographie KrF (fluorure de krypton) et ArF (fluorure d'argon) appartiennent à la catégorie de la lithographie ultraviolette profonde (DUV). Les deux utilisent des longueurs d'onde lumineuses spécifiques projetées via des systèmes optiques sur la couche de photorésist d'une plaquette de silicium, transférant ainsi des motifs de circuits complexes.

Machines de lithographie KrF: Utilisez une source lumineuse de longueur d'onde de 248 nm, atteignant des résolutions inférieures à 110 nm, adaptée à divers processus de fabrication de circuits intégrés.

Machines de lithographie ArF: Utilisez une source lumineuse de longueur d'onde de 193 nm, offrant une résolution plus élevée pour les technologies de processus inférieures à 65 nm, permettant la fabrication de circuits plus fins.

Importance technologique : modernisation et autonomie de l'industrie

Le développement de ces machines de lithographie marque une étape majeure dans l’avancement de la fabrication de semi-conducteurs et dans l’atteinte de l’autonomie industrielle.:

Avancées techniques: La création réussie des machines de lithographie KrF et ArF met en évidence des progrès significatifs dans la technologie de lithographie haut de gamme, fournissant un support technique solide pour la fabrication de semi-conducteurs.

Mise à niveau de l'industrie: Les machines de lithographie de haute précision permettent la production de circuits intégrés plus complexes et plus performants, stimulant l'innovation sur l'ensemble de la chaîne de valeur des semi-conducteurs.

Sécurité économique et nationale : En réduisant la dépendance à la technologie étrangère, ces machines renforcent l'autosuffisance de l'industrie nationale des semi-conducteurs, renforçant ainsi la sécurité économique et industrielle.

refroidisseur d'eau : La clé d'une performance stable des machines de lithographie

Un contrôle précis de la température est essentiel pour garantir la qualité et le rendement du processus de lithographie. Les refroidisseurs d'eau, en tant que composants essentiels des systèmes de refroidissement, jouent un rôle essentiel:

Besoins en refroidissement: Les machines de lithographie sont extrêmement sensibles aux fluctuations de température pendant l'exposition, ce qui nécessite des refroidisseurs d'eau qui assurent un contrôle de température très précis et stable.

Fonctions des refroidisseurs: En faisant circuler l'eau de refroidissement, les refroidisseurs dissipent efficacement la chaleur générée pendant le fonctionnement, maintenant l'équipement laser dans une plage de température optimale et garantissant la précision et la fiabilité du processus de lithographie.

Ultrafast laser chiller CWUP-20ANP with 0.08℃ stability

TEYU Chiller propose des solutions de refroidissement professionnelles pour les machines de lithographie

Les refroidisseurs laser ultra-rapides de la série TEYU CWUP peuvent fournir un contrôle de température précis et stable pour les machines de lithographie. Le refroidisseur modèle CWUP-20ANP assure une stabilité de température de ±0.08°C, offrant un refroidissement hautement efficace pour une fabrication de précision.

Dans le monde précis de la fabrication de semi-conducteurs, les machines de lithographie sont les dispositifs de base pour le transfert de motifs de microcircuits. Avec l'avancement de la technologie, la machine de lithographie au fluorure de krypton et la machine de lithographie au fluorure d'argon sont devenues une force importante pour promouvoir le développement de l'industrie avec leurs excellentes performances.

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