工信部2024年发布的指导意见推动28纳米及以上芯片制造全流程国产化，这是一个重要的技术里程碑。关键进展包括KrF和ArF光刻机，这些技术进步将助力实现高精度电路制造，并提升行业自主能力。精确的温度控制对这些工艺至关重要，而TEYU CWUP冷水机组则确保了半导体制造的稳定性能。
突发新闻：工信部推广套刻精度≤8nm的国产深紫外光刻机
2024-12-20
近月，工信部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指南（2024年版）》，为28纳米以上成熟节点芯片制造全流程国产化铺平了道路！
28nm工艺虽然算不上尖端，但它作为中低端芯片与中高端芯片的分界线，意义重大。除了高端CPU、GPU、AI芯片等，大多数工业级芯片都依赖于28nm及以上工艺。
工作原理：深紫外光刻技术的进步
KrF（氟化氪）和 ArF（氟化氩）光刻机属于深紫外 (DUV) 光刻技术。它们都利用特定波长的光通过光学系统投射到硅晶圆的光刻胶层上，从而转移复杂的电路图案。
KrF光刻机：采用248nm波长光源，可实现110nm以下的分辨率，适用于各种集成电路制造工艺。
ArF光刻机：使用193nm波长光源，为65nm以下工艺技术提供更高的分辨率，从而能够制造更精细的电路。
科技意义：产业升级与自主创新
这些光刻机的研发，标志着半导体制造领域迈向进步、实现产业自主化的重要里程碑：
技术突破： KrF、ArF光刻机的成功研制，标志着高端光刻技术取得重大进展，为半导体制造提供了强有力的技术支撑。
产业升级：高精度光刻机能够生产更复杂、更高性能的集成电路，推动整个半导体价值链的创新。
经济和国家安全：通过减少对外国技术的依赖，这些机器增强了国内半导体产业的自给自足能力，增强了经济和工业安全。
冷水机组：光刻机性能稳定的关键
精确的温度控制对于确保光刻工艺的质量和良率至关重要。冷水机组作为冷却系统的核心部件，发挥着至关重要的作用：
冷却要求：光刻机对曝光过程中的温度波动极为敏感，因此需要水冷却器提供高度精确和稳定的温度控制。
冷水机的作用：冷水机通过循环冷却水，有效带走激光设备在运行过程中产生的热量，使激光设备保持在最佳温度范围内，确保光刻工艺的准确性和可靠性。
TEYU冷水机为光刻机提供专业的冷却解决方案
TEYU CWUP系列超快激光冷水机可为光刻机提供精准稳定的温度控制。其中，CWUP-20ANP型号的冷水机温度稳定性可达±0.08℃，为精密制造提供高效的冷却。
在精密的半导体制造世界中，光刻机是微电路图形转移的核心设备。随着技术的进步，氟化氪光刻机和氟化氩光刻机凭借其优异的性能成为推动行业发展的重要力量。
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