工信部2024年的指导方针推动28纳米以上芯片制造的全流程本土化，这是一个重要的技术里程碑。 关键进步包括 KrF 和 ArF 光刻机，可实现高精度电路并提高行业自力更生能力。 精确的温度控制对于这些过程至关重要，TEYU CWUP 冷水机组可确保半导体制造的稳定性能。
突发新闻：工信部推广套刻精度≤8nm的国产深紫外光刻机
2024-12-20
近月，工业和信息化部印发了《首台（套）重大技术装备推广应用指南（2024年版）》。 这为28nm以上节点成熟芯片制造全工艺国产化奠定了基础！
28nm技术虽然不算尖端，但作为中低端芯片与中高端芯片的分界线，却有着重要的意义。 除了先进的CPU、GPU、AI芯片外，大多数工业级芯片都依赖于28nm或更高的工艺。
工作原理：深紫外光刻技术的进步
KrF（氟化氪）和 ArF（氟化氩）光刻机属于深紫外（DUV）光刻类别。 两者都利用通过光学系统投射到硅晶片的光刻胶层上的特定光波长，从而转移复杂的电路图案。
KrF光刻机： 使用248nm波长光源，实现110nm以下的分辨率，适用于各种集成电路制造工艺。
ArF光刻机： 使用193nm波长的光源，为65nm以下工艺技术提供更高的分辨率，从而能够制造更精细的电路。
科技意义：产业升级与自力更生
这些光刻机的研发是推进半导体制造和实现产业自主化的重要里程碑：
技术突破： KrF、ArF光刻机的成功研制，标志着高端光刻技术取得重大进展，为半导体制造提供了强有力的技术支撑。
产业升级： 高精度光刻机能够生产更复杂、更高性能的集成电路，推动整个半导体价值链的创新。
经济和国家安全：通过减少对外国技术的依赖，这些机器增强了国内半导体产业的自给自足能力，增强了经济和工业安全。
冷水机 ：光刻机性能稳定的关键
精确的温度控制对于确保光刻工艺的质量和产量至关重要。 冷水机组作为制冷系统的核心部件，发挥着至关重要的作用：
冷却要求： 光刻机对曝光过程中的温度波动极为敏感，因此需要水冷却器提供高度精确和稳定的温度控制。
冷水机组的功能： 冷水机组通过循环冷却水，有效地散发运行过程中产生的热量，使激光设备保持在最佳温度范围内，确保光刻工艺的准确性和可靠性。
TEYU冷水机为光刻机提供专业的冷却解决方案
TEYU CWUP系列超快激光冷水机可以为光刻机提供精确、稳定的温度控制。 这 冷水机型号 CWUP-20ANP 实现温度稳定性 ±0.08°C，为精密制造提供高效冷却。
在精密的半导体制造世界中，光刻机是微电路图案转移的核心设备。 随着技术的进步，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机凭借其优异的性能，成为推动行业发展的重要力量。
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