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Ultime notizie: il MIIT promuove le macchine litografiche DUV nazionali con precisione di sovrapposizione ≤8 nm

Le linee guida del MIIT per il 2024 promuovono la localizzazione completa del processo per la produzione di chip a 28 nm+, una pietra miliare tecnologica fondamentale. Tra i principali progressi rientrano le macchine litografiche KrF e ArF, che consentono la realizzazione di circuiti ad alta precisione e aumentano l'autosufficienza del settore. Per questi processi è fondamentale un controllo preciso della temperatura: i refrigeratori d'acqua TEYU CWUP garantiscono prestazioni stabili nella produzione di semiconduttori.

Negli ultimi mesi, il Ministero dell'Industria e dell'Informazione Tecnologica (MIIT) ha pubblicato le "Linee guida per la promozione e l'applicazione del primo (set) importante equipaggiamento tecnico (edizione 2024)". Ciò apre la strada alla localizzazione completa del processo di produzione di chip maturi per nodi superiori a 28 nm!

Sebbene la tecnologia a 28 nm non sia all'avanguardia, riveste un'importanza significativa in quanto rappresenta la linea di demarcazione tra i chip di fascia bassa-media e quelli di fascia medio-alta. Oltre alle CPU, alle GPU e ai chip AI avanzati, la maggior parte dei chip di livello industriale si basa su tecnologie a 28 nm o superiori.

MIIT Promotes Domestic DUV Lithography Machines with ≤8nm Overlay Accuracy

Principio di funzionamento: progressi nella litografia ultravioletta profonda

Le macchine litografiche KrF (fluoruro di cripton) e ArF (fluoruro di argon) rientrano nella categoria della litografia a raggi ultravioletti profondi (DUV). Entrambi sfruttano specifiche lunghezze d'onda luminose proiettate attraverso sistemi ottici sullo strato di fotoresist di un wafer di silicio, trasferendo complessi schemi circuitali.

Macchine litografiche KrF: Utilizza una sorgente luminosa con lunghezza d'onda di 248 nm, che consente di ottenere risoluzioni inferiori a 110 nm, adatte a vari processi di produzione di circuiti integrati.

Macchine litografiche ArF: Utilizza una sorgente luminosa con lunghezza d'onda di 193 nm, che offre una risoluzione più elevata per le tecnologie di processo inferiori a 65 nm, consentendo la fabbricazione di circuiti più fini.

Importanza tecnologica: aggiornamento del settore e autosufficienza

Lo sviluppo di queste macchine litografiche segna una pietra miliare importante nel progresso della produzione di semiconduttori e nel raggiungimento dell'autonomia industriale:

Innovazioni tecniche: La riuscita realizzazione delle macchine litografiche KrF e ArF evidenzia un progresso significativo nella tecnologia litografica di fascia alta, fornendo un solido supporto tecnico per la produzione di semiconduttori.

Aggiornamento del settore: Le macchine litografiche ad alta precisione consentono la produzione di circuiti integrati più complessi e ad alte prestazioni, stimolando l'innovazione lungo l'intera catena del valore dei semiconduttori.

Sicurezza economica e nazionale: riducendo la dipendenza dalla tecnologia straniera, queste macchine rafforzano l'autosufficienza dell'industria nazionale dei semiconduttori, rafforzando la sicurezza economica e industriale.

Refrigeratore d'acqua : La chiave per prestazioni stabili della macchina litografica

Un controllo preciso della temperatura è essenziale per garantire la qualità e la resa del processo litografico. I refrigeratori d'acqua, in quanto componenti fondamentali dei sistemi di raffreddamento, svolgono un ruolo fondamentale:

Requisiti di raffreddamento: Le macchine litografiche sono estremamente sensibili alle fluttuazioni di temperatura durante l'esposizione, per cui necessitano di refrigeratori ad acqua che garantiscano un controllo della temperatura estremamente preciso e stabile.

Funzioni dei refrigeratori: Facendo circolare l'acqua di raffreddamento, i refrigeratori dissipano efficacemente il calore generato durante il funzionamento, mantenendo l'apparecchiatura laser entro un intervallo di temperatura ottimale e garantendo precisione e affidabilità nel processo di litografia.

Ultrafast laser chiller CWUP-20ANP with 0.08℃ stability

TEYU Chiller offre soluzioni di raffreddamento professionali per macchine litografiche

I refrigeratori laser ultraveloci della serie TEYU CWUP possono garantire un controllo della temperatura preciso e stabile per le macchine litografiche. IL modello di refrigeratore CWUP-20ANP raggiunge la stabilità della temperatura di ±0.08°C, che garantisce un raffreddamento altamente efficiente per la produzione di precisione.

Nel mondo preciso della produzione di semiconduttori, le macchine litografiche sono i dispositivi principali per il trasferimento di schemi di microcircuiti. Con il progresso della tecnologia, le macchine litografiche al fluoruro di kripton e le macchine litografiche al fluoruro di argon sono diventate un fattore importante per promuovere lo sviluppo del settore grazie alle loro eccellenti prestazioni.

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