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Ultime notizie: il MIIT promuove le macchine litografiche DUV nazionali con precisione di sovrapposizione ≤8 nm

Le linee guida del MIIT per il 2024 promuovono la localizzazione completa del processo per la produzione di chip a 28 nm+, una pietra miliare tecnologica cruciale. Tra i principali progressi figurano le macchine litografiche KrF e ArF, che consentono la realizzazione di circuiti ad alta precisione e aumentano l'autosufficienza del settore. Il controllo preciso della temperatura è fondamentale per questi processi, con i refrigeratori ad acqua TEYU CWUP che garantiscono prestazioni stabili nella produzione di semiconduttori.

Negli ultimi mesi, il Ministero dell'Industria e dell'Informazione Tecnologica (MIIT) ha pubblicato le "Linee guida per la promozione e l'applicazione delle prime (serie) principali attrezzature tecniche (edizione 2024)". Ciò apre la strada alla localizzazione completa del processo di produzione di chip maturi per nodi superiori a 28 nm!

Sebbene la tecnologia a 28 nm non sia all'avanguardia, riveste un'importanza significativa come linea di demarcazione tra chip di fascia medio-bassa e chip di fascia medio-alta. A parte CPU, GPU e chip di intelligenza artificiale avanzati, la maggior parte dei chip di livello industriale si basa su tecnologie a 28 nm o superiori.

 Il MIIT promuove le macchine litografiche DUV domestiche con precisione di sovrapposizione ≤8nm

Principio di funzionamento: progressi nella litografia ultravioletta profonda

Le macchine litografiche KrF (fluoruro di kripton) e ArF (fluoruro di argon) rientrano nella categoria della litografia a ultravioletti profondi (DUV). Entrambe utilizzano specifiche lunghezze d'onda luminose proiettate attraverso sistemi ottici sullo strato di fotoresist di un wafer di silicio, trasferendo complessi schemi circuitali.

Macchine litografiche KrF: utilizzano una sorgente luminosa con lunghezza d'onda di 248 nm, raggiungendo risoluzioni inferiori a 110 nm, adatte a vari processi di produzione di circuiti integrati.

Macchine litografiche ArF: utilizzano una sorgente luminosa con lunghezza d'onda di 193 nm, offrendo una risoluzione più elevata per tecnologie di processo inferiori a 65 nm, consentendo la fabbricazione di circuiti più fini.

Importanza tecnologica: aggiornamento del settore e autosufficienza

Lo sviluppo di queste macchine litografiche segna una pietra miliare importante nel progresso della produzione di semiconduttori e nel raggiungimento dell'autonomia industriale:

Innovazioni tecniche: la creazione di successo delle macchine litografiche KrF e ArF evidenzia un progresso significativo nella tecnologia litografica di fascia alta, fornendo un solido supporto tecnico per la produzione di semiconduttori.

Aggiornamento del settore: le macchine litografiche ad alta precisione consentono la produzione di circuiti integrati più complessi e ad alte prestazioni, promuovendo l'innovazione lungo l'intera catena del valore dei semiconduttori.

Sicurezza economica e nazionale: riducendo la dipendenza dalla tecnologia straniera, queste macchine rafforzano l'autosufficienza dell'industria nazionale dei semiconduttori, rafforzando la sicurezza economica e industriale.

Acqua Refrigeratore : la chiave per prestazioni stabili della macchina litografica

Un controllo preciso della temperatura è essenziale per garantire la qualità e la resa del processo litografico. I refrigeratori ad acqua, componenti fondamentali dei sistemi di raffreddamento, svolgono un ruolo fondamentale:

Requisiti di raffreddamento: le macchine litografiche sono estremamente sensibili alle fluttuazioni di temperatura durante l'esposizione, per cui necessitano di refrigeratori ad acqua che garantiscano un controllo della temperatura estremamente preciso e stabile.

Funzioni dei refrigeratori: facendo circolare l'acqua di raffreddamento, i refrigeratori dissipano efficacemente il calore generato durante il funzionamento, mantenendo l'apparecchiatura laser entro un intervallo di temperatura ottimale e garantendo precisione e affidabilità nel processo di litografia.

 Laser ultraveloce refrigeratore CWUP-20ANP con stabilità di 0,08℃

TEYU Refrigeratore Offre soluzioni di raffreddamento professionali per macchine litografiche

I refrigeratori laser ultraveloci della serie TEYU CWUP garantiscono un controllo della temperatura preciso e stabile per le macchine litografiche. Il modello refrigeratore CWUP-20ANP raggiunge una stabilità della temperatura di ±0,08 °C, garantendo un raffreddamento altamente efficiente per la produzione di precisione.

Nel mondo della produzione di semiconduttori, le macchine litografiche sono i dispositivi principali per il trasferimento di pattern di microcircuiti. Con il progresso tecnologico, le macchine litografiche al fluoruro di kripton e quelle al fluoruro di argon sono diventate un fattore determinante per promuovere lo sviluppo del settore grazie alle loro eccellenti prestazioni.

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