Habari Zinazochipuka: MIIT Inakuza Mashine za Kitaifa za DUV za Ndani zenye Usahihi wa ≤8nm wa Uwekeleaji

Katika miezi ya hivi karibuni, Wizara ya Viwanda na Teknolojia ya Habari (MIIT) ilitoa "Miongozo ya Ukuzaji na Utumiaji wa Vifaa Vikuu vya Kwanza (Toleo la 2024)". Hii itafungua njia ya ujanibishaji kamili wa utengenezaji wa chip zilizokomaa kwa nodi zilizo juu ya 28nm!

Ingawa teknolojia ya 28nm si ya kisasa, ina umuhimu mkubwa kama njia ya kugawanya kati ya chipsi za chini hadi katikati na za kati hadi za juu. Kando na CPU za hali ya juu, GPU, na chipsi za AI, chipsi nyingi za kiwango cha viwanda hutegemea teknolojia ya 28nm au ya juu zaidi.

Kanuni ya Kazi: Maendeleo katika Lithography ya kina ya Ultraviolet

Mashine za lithography za KrF (Krypton Fluoride) na ArF (Argon Fluoride) ziko chini ya kitengo cha lithography ya Deep Ultraviolet (DUV). Zote mbili hutumia urefu mahususi wa mawimbi ya mwanga unaokadiriwa kupitia mifumo ya macho kwenye safu ya upigaji picha wa kaki ya silicon, kuhamisha mifumo tata ya saketi.

Mashine za Lithography za KrF: Tumia chanzo cha mwanga cha 248nm cha urefu wa wimbi, kufikia maazimio chini ya 110nm, yanafaa kwa michakato mbalimbali jumuishi ya utengenezaji wa saketi.

Mashine za ArF Lithography: Tumia chanzo cha mwanga cha 193nm cha urefu wa wimbi, kutoa azimio la juu zaidi kwa teknolojia ya mchakato wa sub-65nm, kuwezesha uundaji wa saketi bora zaidi.

Umuhimu wa Kiteknolojia: Uboreshaji wa Sekta na Kujitegemea

Ukuzaji wa mashine hizi za lithography ni alama muhimu katika kuendeleza utengenezaji wa semiconductor na kufikia uhuru wa kiviwanda:

Mafanikio ya Kiufundi: Uundaji uliofaulu wa mashine za lithography za KrF na ArF huangazia maendeleo makubwa katika teknolojia ya hali ya juu ya lithography, kutoa usaidizi thabiti wa kiufundi kwa utengenezaji wa semicondukta.

Uboreshaji wa Sekta: Mashine za usahihi wa hali ya juu huwezesha utayarishaji wa saketi zilizojumuishwa changamano na zenye utendakazi wa hali ya juu, zinazoendesha uvumbuzi katika mnyororo mzima wa thamani wa semiconductor.

Usalama wa Kiuchumi na Kitaifa: Kwa kupunguza utegemezi wa teknolojia ya kigeni, mashine hizi huimarisha utoshelevu wa tasnia ya semiconductor ya ndani, na kuimarisha usalama wa kiuchumi na kiviwanda.

Chiller ya Maji : Ufunguo wa Utendaji Imara wa Mashine ya Lithography

Udhibiti sahihi wa joto ni muhimu ili kuhakikisha ubora na mavuno ya mchakato wa lithography. Vipozezi vya maji, kama sehemu kuu za mifumo ya kupoeza, vina jukumu muhimu:

Mahitaji ya Kupoeza: Mashine za lithography ni nyeti sana kwa mabadiliko ya halijoto wakati wa kukaribia aliyeambukizwa, na hivyo kuhitaji vipozaji vya maji ambavyo hutoa udhibiti sahihi wa halijoto na dhabiti.

Majukumu ya Vibaridishaji: Kwa kuzungusha maji ya kupoeza, vibaridi huondoa kikamilifu joto linalozalishwa wakati wa operesheni, kudumisha vifaa vya leza ndani ya kiwango bora cha halijoto na kuhakikisha usahihi na kutegemewa katika mchakato wa lithography.

TEYU Chiller Hutoa Suluhu za Kitaalamu za Kupoeza kwa Mashine za Lithography

Mfululizo wa TEYU CWUP baridi za leza zenye kasi zaidi zinaweza kutoa udhibiti sahihi na thabiti wa halijoto kwa mashine za lithography. Muundo wa ubaridishaji wa CWUP-20ANP hufikia uthabiti wa halijoto ya ±0.08°C, na kutoa upoaji bora kwa ajili ya utengenezaji wa usahihi.

Katika ulimwengu sahihi wa utengenezaji wa semiconductor, mashine za lithography ni vifaa vya msingi vya uhamisho wa mifumo ya microcircuit. Pamoja na maendeleo ya teknolojia, mashine ya krypton fluoride lithography na argon fluoride lithography mashine imekuwa nguvu muhimu ya kukuza maendeleo ya sekta na utendaji wao bora.