Habari Zinazochipuka: MIIT Inakuza Mashine za Kitaifa za DUV za Ndani zenye Usahihi wa ≤8nm wa Uwekeleaji

Katika miezi ya hivi karibuni, Wizara ya Viwanda na Teknolojia ya Habari (MIIT) ilitoa "Miongozo ya Ukuzaji na Utumiaji wa Vifaa Vikuu vya Kwanza (Toleo la 2024)". Hii itafungua njia ya ujanibishaji kamili wa utengenezaji wa chip zilizokomaa kwa nodi zilizo juu ya 28nm!

Ingawa teknolojia ya 28nm si ya kisasa, ina umuhimu mkubwa kama njia ya kugawanya kati ya chipsi za chini hadi katikati na za kati hadi za juu. Kando na CPU za hali ya juu, GPU, na chipsi za AI, chipsi nyingi za kiwango cha viwanda hutegemea teknolojia ya 28nm au ya juu zaidi.

Kanuni ya Kazi: Maendeleo katika Lithography ya kina ya Ultraviolet

Mashine za lithography za KrF (Krypton Fluoride) na ArF (Argon Fluoride) ziko chini ya kitengo cha lithography ya Deep Ultraviolet (DUV). Zote mbili hutumia urefu mahususi wa mawimbi ya mwanga unaokadiriwa kupitia mifumo ya macho kwenye safu ya upigaji picha wa kaki ya silicon, kuhamisha mifumo tata ya saketi.

Mashine za Lithography za KrF: Tumia chanzo cha mwanga cha 248nm cha urefu wa wimbi, kufikia maazimio chini ya 110nm, yanafaa kwa michakato mbalimbali ya utengenezaji wa saketi jumuishi.

Mashine za Lithography za ArF: Tumia chanzo cha mwanga cha urefu wa nm 193, kutoa azimio la juu zaidi kwa teknolojia ya mchakato wa sub-65nm, kuwezesha uundaji wa saketi bora zaidi.

Umuhimu wa Kiteknolojia: Uboreshaji wa Sekta na Kujitegemea

Ukuzaji wa mashine hizi za lithography ni hatua muhimu katika kuendeleza utengenezaji wa semiconductor na kufikia uhuru wa kiviwanda.:

Mafanikio ya Kiufundi: Kuundwa kwa mafanikio kwa mashine za maandishi za KrF na ArF kuangazia maendeleo makubwa katika teknolojia ya hali ya juu ya lithography, kutoa usaidizi thabiti wa kiufundi kwa utengenezaji wa semiconductor.

Uboreshaji wa Sekta: Mashine za usahihi wa hali ya juu za lithography huwezesha utengenezaji wa saketi zilizojumuishwa ngumu zaidi na za utendaji wa juu, zinazoendesha uvumbuzi kwenye mnyororo mzima wa thamani wa semicondukta.

Usalama wa Kiuchumi na Kitaifa: Kwa kupunguza utegemezi wa teknolojia ya kigeni, mashine hizi huimarisha utoshelevu wa tasnia ya semiconductor ya ndani, na kuimarisha usalama wa kiuchumi na kiviwanda.

Chiller ya Maji : Ufunguo wa Utendaji Imara wa Mashine ya Lithography

Udhibiti sahihi wa joto ni muhimu ili kuhakikisha ubora na mavuno ya mchakato wa lithography. Vipozezi vya maji, kama sehemu kuu za mifumo ya kupoeza, vina jukumu muhimu:

Mahitaji ya Kupoeza: Mashine za lithography ni nyeti sana kwa mabadiliko ya halijoto wakati wa kukaribia aliyeambukizwa, na hivyo kuhitaji vipozaji vya maji ambavyo hutoa udhibiti sahihi wa halijoto na thabiti.

Kazi za Chillers: Kwa kuzungusha maji ya kupoeza, vibaridi huondoa kikamilifu joto linalozalishwa wakati wa operesheni, kudumisha vifaa vya laser ndani ya kiwango bora cha joto na kuhakikisha usahihi na kuegemea katika mchakato wa lithography.

TEYU Chiller Hutoa Suluhu za Kitaalamu za Kupoeza kwa Mashine za Lithography

Mfululizo wa TEYU CWUP baridi za leza zenye kasi zaidi zinaweza kutoa udhibiti sahihi na thabiti wa halijoto kwa mashine za lithography. The chiller model CWUP-20ANP inafikia utulivu wa joto ±0.08°C, ikitoa ubaridi kwa ufanisi wa hali ya juu kwa utengenezaji wa usahihi.

Katika ulimwengu sahihi wa utengenezaji wa semiconductor, mashine za lithography ni vifaa vya msingi vya uhamisho wa mifumo ya microcircuit. Pamoja na maendeleo ya teknolojia, mashine ya krypton fluoride lithography na argon fluoride lithography mashine imekuwa nguvu muhimu ya kukuza maendeleo ya sekta na utendaji wao bora.