Notícias de última hora: MIIT promove máquinas de litografia DUV domésticas com precisão de sobreposição de ≤8 nm

Nos últimos meses, o Ministério da Indústria e Tecnologia da Informação (MIIT) emitiu as "Diretrizes para a Promoção e Aplicação do Primeiro (Conjunto) Grande Equipamento Técnico (Edição de 2024)". Isso abre caminho para a localização completa do processo de fabricação de chips maduros para nós acima de 28 nm!

Embora a tecnologia de 28 nm não seja de ponta, ela tem grande importância como linha divisória entre chips de baixo a médio e médio porte. Além de CPUs, GPUs e chips de IA avançados, a maioria dos chips de nível industrial depende de tecnologias de 28 nm ou superiores.

Princípio de funcionamento: Avanços na litografia ultravioleta profunda

As máquinas de litografia KrF (fluoreto de criptônio) e ArF (fluoreto de argônio) se enquadram na categoria de litografia ultravioleta profunda (DUV). Ambos utilizam comprimentos de onda de luz específicos projetados através de sistemas ópticos na camada de fotorresistência de uma pastilha de silício, transferindo padrões de circuitos complexos.

Máquinas de Litografia KrF: Use uma fonte de luz de comprimento de onda de 248 nm, alcançando resoluções abaixo de 110 nm, adequada para vários processos de fabricação de circuitos integrados.

Máquinas de Litografia ArF: Use uma fonte de luz de comprimento de onda de 193 nm, oferecendo maior resolução para tecnologias de processo sub-65 nm, permitindo a fabricação de circuitos mais finos.

Significado tecnológico: atualização da indústria e autossuficiência

O desenvolvimento dessas máquinas de litografia representa um marco importante no avanço da fabricação de semicondutores e na obtenção de autonomia industrial:

Avanços técnicos: A criação bem-sucedida das máquinas de litografia KrF e ArF destaca um progresso significativo na tecnologia de litografia de ponta, fornecendo suporte técnico robusto para a fabricação de semicondutores.

Atualização da indústria: Máquinas de litografia de alta precisão permitem a produção de circuitos integrados mais complexos e de alto desempenho, impulsionando a inovação em toda a cadeia de valor de semicondutores.

Segurança econômica e nacional: ao reduzir a dependência de tecnologia estrangeira, essas máquinas fortalecem a autossuficiência da indústria nacional de semicondutores, reforçando a segurança econômica e industrial.

Resfriador de água : A chave para o desempenho estável da máquina de litografia

O controle preciso da temperatura é essencial para garantir a qualidade e o rendimento do processo litográfico. Os resfriadores de água, como componentes principais dos sistemas de refrigeração, desempenham um papel vital:

Requisitos de resfriamento: As máquinas de litografia são extremamente sensíveis às flutuações de temperatura durante a exposição, necessitando de resfriadores de água que forneçam controle de temperatura altamente preciso e estável.

Funções dos Chillers: Ao circular a água de resfriamento, os resfriadores dissipam efetivamente o calor gerado durante a operação, mantendo o equipamento a laser dentro de uma faixa de temperatura ideal e garantindo precisão e confiabilidade no processo litográfico.

TEYU Chiller oferece soluções profissionais de resfriamento para máquinas de litografia

Os resfriadores a laser ultrarrápidos da série TEYU CWUP podem fornecer controle de temperatura preciso e estável para máquinas de litografia. O chiller modelo CWUP-20ANP atinge a estabilidade de temperatura de ±0.08°C, proporcionando resfriamento altamente eficiente para fabricação de precisão.

No mundo preciso da fabricação de semicondutores, as máquinas de litografia são os principais dispositivos para a transferência de padrões de microcircuitos. Com o avanço da tecnologia, a máquina de litografia de fluoreto de criptônio e a máquina de litografia de fluoreto de argônio se tornaram uma força importante para promover o desenvolvimento da indústria com seu excelente desempenho.