Nos últimos meses, o Ministério da Indústria e Tecnologia da Informação (MIIT) publicou as "Diretrizes para a Promoção e Aplicação do Primeiro (Conjunto) de Equipamentos Técnicos Principais (Edição de 2024)". Isso abre caminho para a localização completa do processo de fabricação de chips maduros para nós acima de 28 nm!
Embora a tecnologia de 28 nm não seja de ponta, ela tem uma importância significativa como linha divisória entre chips de baixo a médio porte e chips de médio a alto padrão. Além de CPUs, GPUs e chips de IA avançados, a maioria dos chips de nível industrial depende de tecnologias de 28 nm ou superiores.
![O MIIT promove máquinas de litografia DUV domésticas com precisão de sobreposição de ≤8 nm]()
Princípio de funcionamento: Avanços na litografia ultravioleta profunda
As máquinas de litografia KrF (Fluoreto de Crípton) e ArF (Fluoreto de Argônio) se enquadram na categoria de litografia ultravioleta profunda (DUV). Ambas utilizam comprimentos de onda de luz específicos projetados por sistemas ópticos na camada fotorresistente de uma pastilha de silício, transferindo padrões de circuitos complexos.
Máquinas de litografia KrF: usam uma fonte de luz de comprimento de onda de 248 nm, alcançando resoluções abaixo de 110 nm, adequadas para vários processos de fabricação de circuitos integrados.
Máquinas de litografia ArF: usam uma fonte de luz de comprimento de onda de 193 nm, oferecendo maior resolução para tecnologias de processo sub-65 nm, permitindo a fabricação de circuitos mais finos.
Significado tecnológico: atualização da indústria e autossuficiência
O desenvolvimento dessas máquinas de litografia representa um marco importante no avanço da fabricação de semicondutores e na obtenção de autonomia industrial:
Avanços técnicos: A criação bem-sucedida das máquinas de litografia KrF e ArF destaca um progresso significativo na tecnologia de litografia de ponta, fornecendo suporte técnico robusto para a fabricação de semicondutores.
Atualização do setor: máquinas de litografia de alta precisão permitem a produção de circuitos integrados mais complexos e de alto desempenho, impulsionando a inovação em toda a cadeia de valor de semicondutores.
Segurança econômica e nacional: ao reduzir a dependência de tecnologia estrangeira, essas máquinas fortalecem a autossuficiência da indústria nacional de semicondutores, reforçando a segurança econômica e industrial.
Água refrigerador : A chave para o desempenho estável da máquina de litografia
O controle preciso da temperatura é essencial para garantir a qualidade e o rendimento do processo litográfico. Os resfriadores de água, como componentes essenciais dos sistemas de resfriamento, desempenham um papel vital:
Requisitos de resfriamento: máquinas de litografia são extremamente sensíveis a flutuações de temperatura durante a exposição, necessitando de resfriadores de água que forneçam controle de temperatura altamente preciso e estável.
Funções dos resfriadores: Ao circular a água de resfriamento, os resfriadores dissipam efetivamente o calor gerado durante a operação, mantendo o equipamento a laser dentro de uma faixa de temperatura ideal e garantindo precisão e confiabilidade no processo de litografia.
![Laser ultrarrápido refrigerador CWUP-20ANP com estabilidade de 0,08℃]()
TEYU refrigerador Oferece soluções profissionais de resfriamento para máquinas de litografia
Os resfriadores a laser ultrarrápidos da série CWUP da TEYU proporcionam controle de temperatura preciso e estável para máquinas litográficas. O modelo refrigerador CWUP-20ANP atinge estabilidade de temperatura de ±0,08°C, proporcionando resfriamento altamente eficiente para fabricação de precisão.
No mundo preciso da fabricação de semicondutores, as máquinas de litografia são os principais dispositivos para a transferência de padrões de microcircuitos. Com o avanço da tecnologia, as máquinas de litografia de fluoreto de criptônio e de fluoreto de argônio tornaram-se uma força importante para promover o desenvolvimento da indústria com seu excelente desempenho.