loading
Wika

Breaking News: Ang MIIT ay nagpo-promote ng Domestic DUV Lithography Machine na may ≤8nm Overlay Accuracy

Ang mga alituntunin ng 2024 ng MIIT ay nagpo-promote ng full-process na localization para sa 28nm+ chip manufacturing, isang mahalagang tech milestone. Kabilang sa mga pangunahing pagsulong ang KrF at ArF lithography machine, na nagpapagana ng mga high-precision na circuit at nagpapalakas ng self-reliance sa industriya. Ang tumpak na kontrol sa temperatura ay mahalaga para sa mga prosesong ito, na may TEYU CWUP water chillers na tumitiyak sa matatag na pagganap sa paggawa ng semiconductor.

Sa nakalipas na mga buwan, ang Ministri ng Industriya at Teknolohiya ng Impormasyon (MIIT) ay naglabas ng "Mga Alituntunin para sa Pag-promote at Paglalapat ng Una (Itakda) Pangunahing Kagamitang Teknikal (2024 Edition)". Binibigyan nito ang daan para sa ganap na prosesong lokalisasyon ng mature na paggawa ng chip para sa mga node na higit sa 28nm!

Kahit na ang 28nm na teknolohiya ay hindi cutting-edge, ito ay may malaking kahalagahan bilang ang paghahati ng linya sa pagitan ng low-to-mid-end at mid-to-high-end chips. Bukod sa mga advanced na CPU, GPU, at AI chip, karamihan sa mga industrial-grade chip ay umaasa sa 28nm o mas mataas na teknolohiya.

MIIT Promotes Domestic DUV Lithography Machines with ≤8nm Overlay Accuracy

Prinsipyo sa Paggawa: Mga Pagsulong sa Deep Ultraviolet Lithography

Ang KrF (Krypton Fluoride) at ArF (Argon Fluoride) lithography machine ay nasa ilalim ng kategorya ng Deep Ultraviolet (DUV) lithography. Parehong gumagamit ng mga tukoy na wavelength ng liwanag na inaasahang sa pamamagitan ng mga optical system papunta sa photoresist layer ng isang silicon wafer, na naglilipat ng masalimuot na mga pattern ng circuit.

KrF Lithography Machines: Gumamit ng 248nm wavelength na pinagmumulan ng liwanag, na nakakamit ng mga resolusyon na mas mababa sa 110nm, na angkop para sa iba't ibang proseso ng pagmamanupaktura ng integrated circuit.

Mga ArF Lithography Machine: Gumamit ng 193nm wavelength na pinagmumulan ng ilaw, na nag-aalok ng mas mataas na resolution para sa mga sub-65nm na teknolohiya ng proseso, na nagpapagana sa paggawa ng mas pinong mga circuit.

Teknolohikal na Kahalagahan: Pag-upgrade sa Industriya at Pag-asa sa Sarili

Ang pagbuo ng mga makinang ito ng lithography ay nagmamarka ng isang pangunahing milestone sa pagsulong ng paggawa ng semiconductor at pagkamit ng awtonomiya sa industriya.:

Mga Panteknikal na Pagsulong: Ang matagumpay na paglikha ng KrF at ArF lithography machine ay nagha-highlight ng makabuluhang pag-unlad sa high-end na lithography na teknolohiya, na nagbibigay ng matatag na teknikal na suporta para sa paggawa ng semiconductor.

Pag-upgrade ng Industriya: Ang mga high-precision na lithography machine ay nagbibigay-daan sa paggawa ng mas kumplikado at mataas na pagganap na integrated circuit, na nagtutulak ng pagbabago sa buong semiconductor value chain.

Pang-ekonomiya at Pambansang Seguridad: Sa pamamagitan ng pagbabawas ng pag-asa sa dayuhang teknolohiya, pinalalakas ng mga makinang ito ang pagsasarili ng industriya ng domestic semiconductor, pinalalakas ang seguridad sa ekonomiya at industriya.

Panglamig ng Tubig : Ang Susi sa Matatag na Lithography Machine Performance

Ang tumpak na kontrol sa temperatura ay mahalaga para matiyak ang kalidad at ani ng proseso ng lithography. Ang mga water chiller, bilang mga pangunahing bahagi ng mga sistema ng paglamig, ay may mahalagang papel:

Mga Kinakailangan sa Paglamig: Ang mga makina ng Lithography ay sobrang sensitibo sa mga pagbabago sa temperatura sa panahon ng pagkakalantad, na nangangailangan ng mga water chiller na nagbibigay ng lubos na tumpak at matatag na kontrol sa temperatura.

Mga Pag-andar ng Mga Chiller: Sa pamamagitan ng circulating cooling water, ang mga chiller ay epektibong nagwawaldas ng init na nabuo sa panahon ng operasyon, pinapanatili ang laser equipment sa loob ng pinakamainam na hanay ng temperatura at tinitiyak ang katumpakan at pagiging maaasahan sa proseso ng lithography.

Ultrafast laser chiller CWUP-20ANP with 0.08℃ stability

Nag-aalok ang TEYU Chiller ng Mga Propesyonal na Cooling Solution para sa Mga Lithography Machine

Ang TEYU CWUP series ultrafast laser chillers ay maaaring magbigay ng tumpak at matatag na kontrol sa temperatura para sa mga makina ng lithography. Ang modelo ng chiller CWUP-20ANP nakakamit ang katatagan ng temperatura ng ±0.08°C, naghahatid ng lubos na mahusay na paglamig para sa tumpak na pagmamanupaktura.

Sa tiyak na mundo ng pagmamanupaktura ng semiconductor, ang mga makina ng lithography ay ang mga pangunahing aparato para sa paglipat ng mga pattern ng microcircuit. Sa pagsulong ng teknolohiya, ang krypton fluoride lithography machine at argon fluoride lithography machine ay naging isang mahalagang puwersa upang isulong ang pag-unlad ng industriya sa kanilang mahusay na pagganap.

prev
Application ng Laser Technology sa Foldable Smartphone Manufacturing
Ang Papel ng Laser Technology sa Agrikultura: Pagpapahusay ng Kahusayan at Pagpapanatili
susunod

Nandito kami para sa iyo kapag kailangan mo kami.

Mangyaring kumpletuhin ang form para makipag-ugnayan sa amin, at ikalulugod naming tulungan ka.

Copyright © 2025 TEYU S&Isang Chiller | Sitemap     Patakaran sa privacy
Makipag-ugnayan sa amin
email
Makipag -ugnay sa Serbisyo sa Customer
Makipag-ugnayan sa amin
email
Kanselahin
Customer service
detect