工信部2024年的指導方針推動28奈米以上晶片製造的全流程本土化，這是一個重要的技術里程碑。 關鍵進步包括 KrF 和 ArF 光刻機，可實現高精度電路並提高行業自力更生能力。 精確的溫度控制對於這些製程至關重要，TEYU CWUP 冷水機組可確保半導體製造的穩定性能。
突發新聞：工信部推廣套刻精度≤8nm的國產深紫外光刻機
2024-12-20
近月，工業與資訊化部印發了《首台（套）重大技術裝備推廣應用指南（2024年版）》。 這為28nm以上節點成熟晶片製造全製程國產化奠定了基礎！
28nm技術雖然不算尖端，但作為中低階晶片與中高階晶片的分界線，卻有著重要的意義。 除了先進的CPU、GPU、AI晶片外，大多數工業級晶片都依賴28nm或更高的製程。
工作原理：深紫外光刻技術的進步
KrF（氟化氪）和 ArF（氟化氬）光刻機屬於深紫外線（DUV）光刻類別。 兩者都利用透過光學系統投射到矽晶片的光阻層上的特定光波長，從而轉移複雜的電路圖案。
KrF光刻機: 使用248nm波長光源，實現110nm以下的分辨率，適用於各種積體電路製造製程。
ArF光刻機: 使用193nm波長的光源，為65nm以下製程技術提供更高的分辨率，從而能夠製造更精細的電路。
科技意義：產業升級與自力更生
這些光刻機的研發是推動半導體製造和實現產業自主化的重要里程碑:
技術突破: KrF、ArF光刻機的成功研發，標誌著高階光刻技術取得重大進展，為半導體製造提供了強而有力的技術支援。
產業升級: 高精度光刻機能夠生產更複雜、更高性能的積體電路，推動整個半導體價值鏈的創新。
經濟與國家安全：透過減少對外國技術的依賴，這些機器增強了國內半導體產業的自給自足能力，增強了經濟和工業安全。
冷水機 ：光刻機性能穩定的關鍵
精確的溫度控制對於確保光刻製程的品質和產量至關重要。 冷水機組作為冷凍系統的核心部件，發揮至關重要的作用:
冷卻要求: 光刻機對曝光過程中的溫度波動極為敏感，因此需要水冷卻器提供高度精確且穩定的溫度控制。
冷水機組的功能: 冷水機組透過循環冷卻水，有效散發運轉過程中產生的熱量，使雷射設備保持在最佳溫度範圍內，確保光刻製程的準確性和可靠性。
TEYU冷水機為光刻機提供專業的冷卻解決方案
TEYU CWUP系列超快雷射冷水機可為光刻機提供精確、穩定的溫度控制。 這 冰水機型號 CWUP-20ANP 實現溫度穩定性 ±0.08°C，為精密製造提供高效冷卻。
在精密的半導體製造世界中，光刻機是微電路圖案轉移的核心設備。 隨著科技的進步，氟化氪光刻機、氟化氬光刻機憑藉著優異的性能，成為推動產業發展的重要力量。
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