工信部2024年發布的指導意見推動28奈米以上晶片製造全流程國產化，這是一個重要的技術里程碑。關鍵進展包括KrF和ArF光刻機，這些技術進步將協助實現高精度電路製造，並提升產業自主能力。精確的溫度控制對這些製程至關重要，而TEYU CWUP冷水機組則確保了半導體製造的穩定性能。
突發新聞：工信部推廣套刻精度≤8nm的國產深紫外光刻機
2024-12-20
近月，工信部印發《首台（套）重大技術裝備推廣應用指南（2024年版）》，為28奈米以上成熟節點晶片製造全流程國產化鋪平了道路！
28nm製程雖然不算尖端，但它作為中低階晶片與中高階晶片的分界線，意義重大。除了高階CPU、GPU、AI晶片等，大多數工業級晶片都依賴28nm以上製程。
工作原理：深紫外光刻技術的進步
KrF（氟化氪）和 ArF（氟化氬）光刻機屬於深紫外線 (DUV) 微影技術。它們都利用特定波長的光線透過光學系統投射到矽晶圓的光阻層上，從而轉移複雜的電路圖案。
KrF光刻機：採用248nm波長光源，可實現110nm以下的分辨率，適用於各種積體電路製造製程。
ArF光刻機：使用193nm波長光源，為65nm以下製程技術提供更高的分辨率，從而能夠製造更精細的電路。
科技意義：產業升級與自主創新
這些光刻機的研發，標誌著半導體製造領域邁向進步、實現產業自主化的重要里程碑：
技術突破： KrF、ArF光刻機的成功研製，標誌著高階光刻技術取得重大進展，為半導體製造提供了強而有力的技術支撐。
產業升級：高精度光刻機能夠生產更複雜、更高性能的積體電路，推動整個半導體價值鏈的創新。
經濟與國家安全：透過減少對外國技術的依賴，這些機器增強了國內半導體產業的自給自足能力，增強了經濟和工業安全。
冷水機組：光刻機性能穩定的關鍵
精確的溫度控制對於確保光刻製程的品質和良率至關重要。冷水機組作為冷卻系統的核心部件，發揮至關重要的作用：
冷卻需求：光刻機對曝光過程中的溫度波動極為敏感，因此需要水冷卻器提供高度精確且穩定的溫度控制。
冷水機的作用：冷水機透過循環冷卻水，有效帶走雷射設備在運作過程中產生的熱量，使雷射設備保持在最佳溫度範圍內，確保光刻製程的準確性和可靠性。
TEYU冷水機為光刻機提供專業的冷卻解決方案
TEYU CWUP系列超快雷射冷水機可為光刻機提供精準穩定的溫度控制。其中，CWUP-20ANP型號的冰水機溫度穩定性可達±0.08℃，為精密製造提供高效率的冷卻。
在精密的半導體製造世界中，光刻機是微電路圖形轉移的核心設備。隨著科技的進步，氟化氪光刻機和氟化氬光刻機憑藉其優異的性能成為推動產業發展的重要力量。
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