En los últimos meses, el Ministerio de Industria y Tecnología de la Información (MIIT) publicó las "Directrices para la Promoción y Aplicación del Primer Conjunto de Equipos Técnicos Principales (Edición 2024)". Esto allana el camino para la localización completa del proceso de fabricación de chips maduros para nodos superiores a 28 nm.
Aunque la tecnología de 28 nm no es de vanguardia, tiene una importancia significativa como línea divisoria entre los chips de gama baja y media y de gama media y alta. Además de las CPU, GPU y chips de IA avanzados, la mayoría de los chips de grado industrial se basan en tecnologías de 28 nm o superiores.
![El MIIT promueve máquinas de litografía DUV domésticas con una precisión de superposición de ≤8 nm]()
Principio de funcionamiento: avances en la litografía ultravioleta profunda
Las máquinas de litografía KrF (fluoruro de criptón) y ArF (fluoruro de argón) se clasifican en la categoría de litografía ultravioleta profunda (DUV). Ambas utilizan longitudes de onda de luz específicas proyectadas mediante sistemas ópticos sobre la capa fotorresistente de una oblea de silicio, transfiriendo patrones de circuitos complejos.
Máquinas de litografía KrF: utilizan una fuente de luz de longitud de onda de 248 nm, logrando resoluciones inferiores a 110 nm, adecuadas para diversos procesos de fabricación de circuitos integrados.
Máquinas de litografía ArF: utilizan una fuente de luz de longitud de onda de 193 nm, lo que ofrece una mayor resolución para tecnologías de proceso de menos de 65 nm, lo que permite la fabricación de circuitos más finos.
Importancia tecnológica: modernización de la industria y autosuficiencia
El desarrollo de estas máquinas de litografía marca un hito importante en el avance de la fabricación de semiconductores y el logro de la autonomía industrial:
Avances técnicos: La exitosa creación de las máquinas de litografía KrF y ArF resalta un progreso significativo en la tecnología de litografía de alta gama, proporcionando un sólido soporte técnico para la fabricación de semiconductores.
Actualización de la industria: Las máquinas de litografía de alta precisión permiten la producción de circuitos integrados más complejos y de alto rendimiento, impulsando la innovación en toda la cadena de valor de los semiconductores.
Seguridad económica y nacional: Al reducir la dependencia de la tecnología extranjera, estas máquinas fortalecen la autosuficiencia de la industria nacional de semiconductores, reforzando la seguridad económica e industrial.
Agua enfriador : La clave para un rendimiento estable de la máquina de litografía
Un control preciso de la temperatura es esencial para garantizar la calidad y el rendimiento del proceso litográfico. Los enfriadores de agua, como componentes esenciales de los sistemas de refrigeración, desempeñan un papel fundamental:
Requisitos de enfriamiento: Las máquinas de litografía son extremadamente sensibles a las fluctuaciones de temperatura durante la exposición, lo que requiere enfriadores de agua que proporcionen un control de temperatura altamente preciso y estable.
Funciones de los enfriadores: Al hacer circular agua de enfriamiento, los enfriadores disipan eficazmente el calor generado durante el funcionamiento, manteniendo el equipo láser dentro de un rango de temperatura óptimo y garantizando precisión y confiabilidad en el proceso de litografía.
![Láser ultrarrápido enfriador CWUP-20ANP con estabilidad de 0,08 ℃]()
TEYU enfriador Ofrece soluciones de refrigeración profesionales para máquinas de litografía
Los enfriadores láser ultrarrápidos de la serie CWUP de TEYU proporcionan un control de temperatura preciso y estable para máquinas de litografía. El modelo CWUP-20ANP enfriador alcanza una estabilidad de temperatura de ±0,08 °C, lo que proporciona una refrigeración altamente eficiente para la fabricación de precisión.
En el preciso mundo de la fabricación de semiconductores, las máquinas litográficas son los dispositivos clave para la transferencia de patrones de microcircuitos. Con el avance de la tecnología, las máquinas litográficas de fluoruro de criptón y de fluoruro de argón se han convertido en un factor clave para impulsar el desarrollo de la industria gracias a su excelente rendimiento.