Eilmeldung: MIIT fördert inländische DUV-Lithographiemaschinen mit einer Overlay-Genauigkeit von ≤ 8 nm

In den letzten Monaten gab das Ministerium für Industrie- und Informationstechnologie (MIIT) die "Richtlinien für die Werbung und Anwendung von First (SET) Major Technical Equipment (2024 Edition)" heraus. Dies ebnet den Weg für die Lokalisierung der reifen Chip-Herstellung für Knoten über 28 nm!

Obwohl die 28-nm-Technologie nicht innovativ ist, ist sie von Bedeutung, da die Trennlinie zwischen Niedrig-bis-Mid-End- und mittlerer bis hoher Chips. Abgesehen von fortschrittlichen CPUs, GPUs und KI-Chips stützen sich die meisten Chips in Industriequalität auf 28 nm oder höhere Technologien.

Arbeitsprinzip: Fortschritte in der tiefen ultravioletten Lithographie

KRF (Krypton Fluorid) und ARF (Argon Fluorid) Lithography -Maschinen fallen unter die Kategorie der tiefen Ultravioletten (DUV) -Lithographie. Beide verwenden spezifische Lichtwellenlängen, die durch optische Systeme auf die photoresistische Schicht eines Siliziumwafers projiziert werden, wodurch komplizierte Schaltungsmuster übertragen werden.

KRF -Lithographiemaschinen: Verwenden Sie eine 248 -nm -Wellenlänge -Lichtquelle und erhalten Auflösungen unter 110 nm, die für verschiedene integrierte Schaltungsherstellungsprozesse geeignet sind.

ARF -Lithographiemaschinen: Verwenden Sie eine 193-nm-Wellenlänge-Lichtquelle, die eine höhere Auflösung für Prozesstechnologien unter 65 nm bietet und die Herstellung feinerer Schaltungen ermöglicht.

Technologische Bedeutung: Branchen-Upgrade und Selbstständigkeit

Die Entwicklung dieser Lithographiemaschinen ist ein großer Meilenstein bei der Förderung der Semiconductor -Herstellung und der Erreichung der industriellen Autonomie:

Technische Durchbrüche: Die erfolgreiche Schaffung von KRF- und ARF-Lithographiemaschinen zeigt erhebliche Fortschritte bei der High-End-Lithographie-Technologie und bietet eine robuste technische Unterstützung für die Herstellung von Halbleitern.

Branchen -Upgrade: Hochvorbereitete Lithographiemaschinen ermöglichen die Produktion komplexere und leistungsstärkere integrierte Schaltkreise und treiben die Innovation in der gesamten Wertschöpfungskette des Halbleiters vor.

Wirtschaftliche und nationale Sicherheit: Durch die Verringerung der Abhängigkeit von ausländischer Technologie stärken diese Maschinen die Selbstversorgung der heimischen Halbleiterindustrie und stärken die wirtschaftliche und industrielle Sicherheit.

Wasserkühler : Der Schlüssel zur stabilen Leistung der Lithographiemaschine

Eine präzise Temperaturkontrolle ist wichtig, um die Qualität und den Ertrag des Lithographieprozesses sicherzustellen. Wasserkühler als Kernkomponenten von Kühlsystemen spielen eine wichtige Rolle:

Kühlanforderungen: Lithographiemaschinen reagieren während der Exposition äußerst empfindlich gegenüber Temperaturschwankungen, was Wasserkühler erfordert, die eine sehr genaue und stabile Temperaturregelung bieten.

Funktionen von Chillers: Durch zirkulierendes Kühlwasser leiten Kälte effektiv die während des Betriebs erzeugte Wärme, die Aufrechterhaltung der Lasergeräte innerhalb eines optimalen Temperaturbereichs und die Gewährleistung der Genauigkeit und Zuverlässigkeit des Lithographieprozesses.

Teyu Chiller bietet professionelle Kühllösungen für Lithographiemaschinen an

Die ultraschnelle Laserkalte von Teyu CWUP können eine präzise und stabile Temperaturregelung für Lithographiemaschinen bieten. Der Chiller-Modell CWUP-20ANP erreicht die Temperaturstabilität von ±0.08°C, liefern hocheffiziente Kühlung für die Präzisionsherstellung.

In der genauen Welt der Semiconductor -Herstellung sind Lithographiemaschinen die Kerngeräte für den Transfer von Mikrocircuit -Mustern. Mit der Weiterentwicklung der Technologie sind die Krypton -Fluorid -Lithographie -Maschine und die Argon -Fluorid -Lithographiemaschine zu einer wichtigen Kraft geworden, um die Entwicklung der Branche mit ihrer hervorragenden Leistung zu fördern.