Eilmeldung: MIIT fördert inländische DUV-Lithografiemaschinen mit einer Overlay-Genauigkeit von ≤8 nm

In den letzten Monaten hat das Ministerium für Industrie und Informationstechnologie (MIIT) die „Richtlinien für die Förderung und Anwendung der ersten (festgelegten) wichtigsten technischen Ausrüstung (Ausgabe 2024)“ herausgegeben. Dies ebnet den Weg für die vollständige Prozesslokalisierung der ausgereiften Chipherstellung für Knoten über 28 nm!

Obwohl die 28-nm-Technologie nicht auf dem neuesten Stand der Technik ist, spielt sie eine wichtige Rolle als Trennlinie zwischen Chips der unteren bis mittleren Preisklasse und Chips der mittleren bis oberen Preisklasse. Abgesehen von fortschrittlichen CPUs, GPUs und KI-Chips basieren die meisten Industriechips auf 28-nm- oder höheren Technologien.

Funktionsprinzip: Fortschritte in der Tief-Ultraviolett-Lithographie

KrF- (Kryptonfluorid) und ArF- (Argonfluorid) Lithografiemaschinen fallen in die Kategorie der Tief-Ultraviolett-Lithografie (DUV). Beide nutzen spezielle Lichtwellenlängen, die durch optische Systeme auf die Fotolackschicht eines Siliziumwafers projiziert werden und so komplexe Schaltungsmuster übertragen.

KrF-Lithografiemaschinen: Verwenden eine Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 248 nm und erreichen Auflösungen unter 110 nm, die für verschiedene Herstellungsprozesse integrierter Schaltkreise geeignet sind.

ArF-Lithografiemaschinen: Verwenden eine Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 193 nm, die eine höhere Auflösung für Prozesstechnologien unter 65 nm bietet und die Herstellung feinerer Schaltkreise ermöglicht.

Technologische Bedeutung: Industrie-Upgrade und Eigenständigkeit

Die Entwicklung dieser Lithografiemaschinen stellt einen wichtigen Meilenstein für die Weiterentwicklung der Halbleiterfertigung und das Erreichen industrieller Autonomie dar:

Technische Durchbrüche: Die erfolgreiche Entwicklung von KrF- und ArF-Lithografiemaschinen unterstreicht den bedeutenden Fortschritt in der High-End-Lithografietechnologie und bietet eine robuste technische Unterstützung für die Halbleiterherstellung.

Branchen-Upgrade: Hochpräzise Lithografiemaschinen ermöglichen die Herstellung komplexerer und leistungsstärkerer integrierter Schaltkreise und treiben Innovationen entlang der gesamten Halbleiter-Wertschöpfungskette voran.

Wirtschaftliche und nationale Sicherheit: Durch die Verringerung der Abhängigkeit von ausländischer Technologie stärken diese Maschinen die Autarkie der heimischen Halbleiterindustrie und tragen so zur wirtschaftlichen und industriellen Sicherheit bei.

Wasser Kühler : Der Schlüssel zur stabilen Leistung von Lithografiemaschinen

Eine präzise Temperaturregelung ist für die Qualität und Ausbeute des Lithografieprozesses unerlässlich. Wasserkühler spielen als Kernkomponenten von Kühlsystemen eine entscheidende Rolle:

Kühlanforderungen: Lithografiegeräte reagieren während der Belichtung äußerst empfindlich auf Temperaturschwankungen und erfordern daher Wasserkühler, die eine äußerst genaue und stabile Temperaturregelung ermöglichen.

Funktionen von Kühlern: Durch die Zirkulation von Kühlwasser leiten Kühler die während des Betriebs entstehende Wärme effektiv ab, halten die Laserausrüstung in einem optimalen Temperaturbereich und gewährleisten Genauigkeit und Zuverlässigkeit im Lithografieprozess.

TEYU Kühler bietet professionelle Kühllösungen für Lithografiemaschinen

Die ultraschnellen Laserkühler der TEYU CWUP-Serie ermöglichen eine präzise und stabile Temperaturregelung für Lithografiemaschinen. Das Modell CWUP-20ANP Kühler erreicht eine Temperaturstabilität von ±0,08 °C und bietet hocheffiziente Kühlung für die Präzisionsfertigung.

In der präzisen Welt der Halbleiterfertigung sind Lithografiemaschinen die wichtigsten Geräte für die Übertragung von Mikroschaltungsmustern. Mit dem technologischen Fortschritt sind Kryptonfluorid- und Argonfluorid-Lithografiemaschinen mit ihrer hervorragenden Leistung zu einer wichtigen Triebkraft für die Entwicklung der Branche geworden.