သတင်းများ- MIIT သည် ≤8nm ထပ်ဆင့်တိကျမှုဖြင့် ပြည်တွင်း DUV Lithography စက်များကို မြှင့်တင်သည်

မကြာသေးမီလများအတွင်း စက်မှုနှင့် သတင်းအချက်အလက်နည်းပညာဝန်ကြီးဌာန (MIIT) မှ "ပထမအကြိမ် (Set) Major Technical Equipment (2024 Edition)" ကို မြှင့်တင်ရန် လမ်းညွှန်ချက်များ ထုတ်ပြန်ခဲ့သည်။ ၎င်းသည် 28nm အထက် node အတွက် ရင့်ကျက်သော ချစ်ပ်များ ထုတ်လုပ်ခြင်း၏ လုပ်ငန်းစဉ် အပြည့်အစုံကို ဒေသန္တရပြုခြင်းအတွက် လမ်းခင်းပေးပါသည်။

28nm နည်းပညာသည် ခေတ်မီခြင်းမဟုတ်သော်လည်း၊ ၎င်းသည် အနိမ့်မှ အလယ်အလတ်နှင့် အလယ်အလတ်မှ အမြင့်ဆုံး ချစ်ပ်များကြားတွင် ပိုင်းခြားသည့်မျဉ်းအဖြစ် သိသာထင်ရှားသော အရေးပါမှုရှိသည်။ အဆင့်မြင့် CPU များ၊ GPU များနှင့် AI ချစ်ပ်များအပြင်၊ စက်မှုအဆင့် ချစ်ပ်အများစုသည် 28nm သို့မဟုတ် ပိုမိုမြင့်မားသော နည်းပညာများကို အားကိုးပါသည်။

အလုပ်အခြေခံမူ- Deep Ultraviolet Lithography တွင် တိုးတက်မှုများ

KrF (Krypton Fluoride) နှင့် ArF (Argon Fluoride) lithography စက်များသည် Deep Ultraviolet (DUV) lithography အမျိုးအစားအောက်တွင် ရှိသည်။ နှစ်ခုစလုံးသည် အလင်းလှိုင်းအလျားများကို ဆီလီကွန် wafer ၏ photoresist အလွှာပေါ်သို့ အလင်းပြသည့် အလင်းလှိုင်းအလျားများကို အသုံးပြုကာ ရှုပ်ထွေးသော ဆားကစ်ပုံစံများကို လွှဲပြောင်းပေးသည်။

KrF Lithography စက်များ- 110nm အောက် ကြည်လင်ပြတ်သားမှု ရရှိစေရန် 248nm လှိုင်းအလျား အလင်းရင်းမြစ်ကို အသုံးပြု၍ အမျိုးမျိုးသော ပေါင်းစပ် circuit ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သင့်လျော်သည်။

ArF Lithography စက်များ- 193nm လှိုင်းအလျား အလင်းရင်းမြစ်ကို အသုံးပြု၍ sub-65nm လုပ်ငန်းစဉ်နည်းပညာများအတွက် ပိုမိုကြည်လင်ပြတ်သားသော ဆားကစ်များကို ဖန်တီးနိုင်စေကာ ပိုမိုကြည်လင်ပြတ်သားမှုကို ပေးဆောင်သည်။

နည်းပညာဆိုင်ရာ အရေးပါမှု- စက်မှုအဆင့်မြှင့်တင်ရေးနှင့် မိမိကိုယ်ကိုအားကိုးခြင်း။

အဆိုပါ lithography စက်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်ရေးနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်းဆိုင်ရာ ကိုယ်ပိုင်အုပ်ချုပ်ခွင့်ကို ရရှိရေးတွင် အဓိက မှတ်တိုင်တစ်ခုဖြစ်သည်။

နည်းပညာဆိုင်ရာ အောင်မြင်မှုများ- KrF နှင့် ArF lithography စက်များ၏ အောင်မြင်စွာဖန်တီးမှုသည် အဆင့်မြင့် lithography နည်းပညာတွင် သိသာထင်ရှားသော တိုးတက်မှုကို မီးမောင်းထိုးပြပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက် ခိုင်မာသောနည်းပညာပိုင်းဆိုင်ရာ ပံ့ပိုးမှုပေးပါသည်။

စက်မှုအဆင့်မြှင့်တင်ခြင်း- တိကျမှုမြင့်မားသော lithography စက်များသည် ပိုမိုရှုပ်ထွေးပြီး စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်သော ပေါင်းစပ်ဆားကစ်များကို ထုတ်လုပ်နိုင်စေပြီး၊ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာတန်ဖိုးကွင်းဆက်တစ်ခုလုံးတွင် ဆန်းသစ်တီထွင်မှုကို မောင်းနှင်စေသည်။

စီးပွားရေးနှင့် အမျိုးသားလုံခြုံရေး- နိုင်ငံခြားနည်းပညာအပေါ် မှီခိုအားထားမှုကို လျှော့ချခြင်းဖြင့် အဆိုပါစက်များသည် ပြည်တွင်းတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးစက်လုပ်ငန်း၏ ဖူလုံမှုအား အားကောင်းစေပြီး စီးပွားရေးနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်းလုံခြုံရေးကို အားကောင်းစေသည်။

Water Chiller : တည်ငြိမ်သော Lithography စက်စွမ်းဆောင်ရည်အတွက် သော့ချက်

lithography လုပ်ငန်းစဉ်၏ အရည်အသွေးနှင့် အထွက်နှုန်းကို သေချာစေရန်အတွက် တိကျသော အပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုသည် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။ အအေးပေးစနစ်၏ အဓိက အစိတ်အပိုင်းများအဖြစ် ရေအေးစက်များသည် အရေးကြီးသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည်-

Cooling Requirements- Lithography စက်များသည် ထိတွေ့မှုအတွင်း အပူချိန်အတက်အကျများကို အလွန်အမင်း အာရုံခံနိုင်ပြီး၊ အလွန်တိကျပြီး တည်ငြိမ်သော အပူချိန်ထိန်းပေးသည့် ရေအေးစက်များ လိုအပ်ပါသည်။

Chillers များ၏ လုပ်ဆောင်ချက်များ- အအေးခံရေကို လည်ပတ်စေခြင်းဖြင့်၊ အအေးခံစက်များသည် လည်ပတ်နေစဉ်အတွင်း ထုတ်ပေးသော အပူများကို ထိရောက်စွာ ပြေပျောက်စေကာ၊ အကောင်းဆုံးသော အပူချိန်အကွာအဝေးအတွင်း လေဆာကိရိယာများကို ထိန်းသိမ်းကာ တိကျမှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုတို့ကို အာမခံပါသည်။

TEYU Chiller သည် Lithography စက်များအတွက် ပရော်ဖက်ရှင်နယ် အအေးပေးသည့် ဖြေရှင်းချက်များကို ပေးသည်။

TEYU CWUP series ultrafast လေဆာ chillers များသည် lithography စက်များအတွက် တိကျပြီး တည်ငြိမ်သော အပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုကို ပေးစွမ်းနိုင်သည်။ Chiller မော်ဒယ် CWUP-20ANP သည် အပူချိန် ±0.08°C တည်ငြိမ်မှုကို ရရှိပြီး တိကျစွာ ထုတ်လုပ်မှုအတွက် အလွန်ထိရောက်သော အအေးပေးပါသည်။

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၏တိကျသောကမ္ဘာတွင်၊ lithography စက်များသည် microcircuit ပုံစံများကိုလွှဲပြောင်းရန်အတွက်အဓိကကိရိယာများဖြစ်သည်။ နည်းပညာတိုးတက်မှုနှင့်အတူ၊ krypton fluoride lithography စက်နှင့် argon fluoride lithography စက်များသည် ၎င်းတို့၏ ထူးချွန်သောစွမ်းဆောင်ရည်ဖြင့် စက်မှုလုပ်ငန်းဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးကို မြှင့်တင်ရန် အရေးကြီးသော တွန်းအားတစ်ခု ဖြစ်လာခဲ့သည်။