Berita Terkini: MIIT Mempromosikan Mesin Litografi DUV Domestik dengan Ketepatan Tindanan ≤8nm

Dalam beberapa bulan kebelakangan ini, Kementerian Perindustrian dan Teknologi Maklumat (MIIT) mengeluarkan "Garis Panduan Promosi dan Penggunaan Peralatan Teknikal Utama (Set) Pertama (Edisi 2024)". Ini membuka jalan untuk penyetempatan proses penuh pembuatan cip matang untuk nod melebihi 28nm!

Walaupun teknologi 28nm tidak canggih, ia memegang kepentingan penting sebagai garis pemisah antara cip rendah hingga pertengahan dan pertengahan hingga tinggi. Selain daripada CPU, GPU dan cip AI termaju, kebanyakan cip gred industri bergantung pada teknologi 28nm atau lebih tinggi.

Prinsip Kerja: Kemajuan dalam Litografi Ultraviolet Dalam

Mesin litografi KrF (Krypton Fluoride) dan ArF (Argon Fluoride) termasuk dalam kategori litografi Ultraviolet Dalam (DUV). Kedua-duanya menggunakan panjang gelombang cahaya tertentu yang diunjurkan melalui sistem optik ke lapisan fotoresist wafer silikon, memindahkan corak litar yang rumit.

Mesin Litografi KrF: Gunakan sumber cahaya panjang gelombang 248nm, mencapai resolusi di bawah 110nm, sesuai untuk pelbagai proses pembuatan litar bersepadu.

Mesin Litografi ArF: Gunakan sumber cahaya panjang gelombang 193nm, menawarkan resolusi yang lebih tinggi untuk teknologi proses sub-65nm, membolehkan fabrikasi litar yang lebih halus.

Kepentingan Teknologi: Peningkatan Industri dan Berdikari

Pembangunan mesin litografi ini menandakan peristiwa penting dalam memajukan pembuatan semikonduktor dan mencapai autonomi industri:

Kejayaan Teknikal: Kejayaan penciptaan mesin litografi KrF dan ArF menyerlahkan kemajuan ketara dalam teknologi litografi mewah, memberikan sokongan teknikal yang mantap untuk pembuatan semikonduktor.

Peningkatan Industri: Mesin litografi berketepatan tinggi membolehkan pengeluaran litar bersepadu yang lebih kompleks dan berprestasi tinggi, memacu inovasi merentasi keseluruhan rantaian nilai semikonduktor.

Ekonomi dan Keselamatan Negara: Dengan mengurangkan pergantungan kepada teknologi asing, mesin ini mengukuhkan sara diri industri semikonduktor domestik, mengukuhkan keselamatan ekonomi dan industri.

Penyejuk Air : Kunci Prestasi Mesin Litografi yang Stabil

Kawalan suhu yang tepat adalah penting untuk memastikan kualiti dan hasil proses litografi. Penyejuk air, sebagai komponen teras sistem penyejukan, memainkan peranan penting:

Keperluan Penyejukan: Mesin litografi sangat sensitif terhadap turun naik suhu semasa pendedahan, memerlukan penyejuk air yang menyediakan kawalan suhu yang sangat tepat dan stabil.

Fungsi Penyejuk: Dengan mengedarkan air penyejuk, penyejuk secara berkesan menghilangkan haba yang dijana semasa operasi, mengekalkan peralatan laser dalam julat suhu optimum dan memastikan ketepatan dan kebolehpercayaan dalam proses litografi.

TEYU Chiller Menawarkan Penyelesaian Penyejukan Profesional untuk Mesin Litografi

Penyejuk laser ultrafast siri TEYU CWUP boleh memberikan kawalan suhu yang tepat dan stabil untuk mesin litografi. The model penyejuk CWUP-20ANP mencapai kestabilan suhu sebanyak ±0.08°C, memberikan penyejukan yang sangat cekap untuk pembuatan ketepatan.

Dalam dunia pembuatan semikonduktor yang tepat, mesin litografi ialah peranti teras untuk pemindahan corak litar mikro. Dengan kemajuan teknologi, mesin litografi fluorida krypton dan mesin litografi fluorida argon telah menjadi kuasa penting untuk menggalakkan pembangunan industri dengan prestasi cemerlang mereka.