Термінові новини: MIIT просуває вітчизняні літографічні машини DUV з точністю накладання ≤8 нм

В останні місяці Міністерство промисловості та інформаційних технологій (MIIT) опублікувало «Керівні принципи щодо просування та застосування першого (комплекту) основного технічного обладнання (видання 2024 року)». Це відкриває шлях для повноцінної локалізації виробництва зрілих мікросхем для вузлів, що виготовляються за технологією понад 28 нм!

Хоча 28-нм технологія не є передовою, вона має суттєве значення як межа між чіпами низького та середнього класу та середнього та високого класу. Окрім передових центральних процесорів, графічних процесорів та чіпів штучного інтелекту, більшість промислових чіпів використовують 28-нм або новіші технології.

Принцип роботи: Досягнення в літографії глибокого ультрафіолету

Літографічні машини KrF (фторид криптону) та ArF (фторид аргону) належать до категорії літографії глибокого ультрафіолету (DUV). Обидва використовують певні довжини хвиль світла, що проектуються через оптичні системи на шар фоторезисту кремнієвої пластини, переносячи складні схемні візерунки.

Літографічні машини KrF: використовують джерело світла з довжиною хвилі 248 нм, досягаючи роздільної здатності нижче 110 нм, що підходить для різних процесів виробництва інтегральних схем.

Літографічні машини ArF: використовують джерело світла з довжиною хвилі 193 нм, що забезпечує вищу роздільну здатність для технологій обробки даних менше 65 нм, що дозволяє створювати точніші схеми.

Технологічне значення: модернізація галузі та самостійність

Розробка цих літографічних машин знаменує собою важливу віху в розвитку виробництва напівпровідників та досягненні промислової автономії:

Технічні прориви: Успішне створення літографічних машин KrF та ArF свідчить про значний прогрес у високоякісних літографічних технологіях, забезпечуючи надійну технічну підтримку для виробництва напівпровідників.

Модернізація галузі: Високоточні літографічні машини дозволяють виробляти складніші та високопродуктивні інтегральні схеми, стимулюючи інновації в усьому ланцюжку створення вартості напівпровідників.

Економічна та національна безпека: Зменшуючи залежність від іноземних технологій, ці машини зміцнюють самодостатність вітчизняної напівпровідникової промисловості, зміцнюючи економічну та промислову безпеку.

Водяний чилер : ключ до стабільної роботи літографічної машини

Точний контроль температури є важливим для забезпечення якості та продуктивності процесу літографії. Водяні чилери, як основні компоненти систем охолодження, відіграють життєво важливу роль:

Вимоги до охолодження: Літографічні машини надзвичайно чутливі до коливань температури під час експозиції, що вимагає використання водяних чилерів, які забезпечують високоточний та стабільний контроль температури.

Функції чилерів: Завдяки циркуляції охолоджувальної води чилери ефективно розсіюють тепло, що утворюється під час роботи, підтримуючи лазерне обладнання в оптимальному температурному діапазоні та забезпечуючи точність і надійність процесу літографії.

Чиллер TEYU пропонує професійні рішення для охолодження літографічних машин

Ультрашвидкі лазерні чилери серії TEYU CWUP можуть забезпечити точний та стабільний контроль температури для літографічних машин. Модель чилера CWUP-20ANP досягає стабільності температури ±0,08°C, забезпечуючи високоефективне охолодження для прецизійного виробництва.

У світі точного виробництва напівпровідників літографічні машини є основними пристроями для перенесення шаблонів мікросхем. З розвитком технологій літографічні машини на основі фториду криптону та фториду аргону стали важливою рушійною силою, що сприяє розвитку галузі завдяки їхній чудовій продуктивності.