Friss hír: Az MIIT ≤8 nm-es rétegfelviteli pontosságú hazai DUV litográfiai gépeket népszerűsít

Az Ipari és Információtechnológiai Minisztérium (MIIT) az elmúlt hónapokban kiadta az „Első (készlet) főbb műszaki berendezések népszerűsítésére és alkalmazására vonatkozó irányelveket (2024-es kiadás)”. Ez megnyitja az utat a 28 nm feletti csomópontok érett chipgyártásának teljes folyamatbeli lokalizációja előtt!

Bár a 28 nm-es technológia nem élvonalbeli, jelentős jelentőséggel bír, mivel választóvonalként szolgál az alsó-középkategóriás, valamint a közép- és felsőkategóriás chipek között. A fejlett CPU-k, GPU-k és mesterséges intelligencia chipek mellett a legtöbb ipari minőségű chip 28 nm-es vagy újabb technológiákra támaszkodik.

Működési elv: Előrelépések a mély ultraibolya litográfiában

A KrF (kripton-fluorid) és ArF (argon-fluorid) litográfiai gépek a mély ultraibolya (DUV) litográfia kategóriájába tartoznak. Mindkettő specifikus fényhullámhosszakat használ, amelyeket optikai rendszereken keresztül vetítenek a szilíciumlap fotoreziszt rétegére, bonyolult áramköri mintákat visznek át.

KrF litográfiai gépek: Használjon 248 nm hullámhosszú fényforrást, amely 110 nm alatti felbontást ér el, és alkalmas különféle integrált áramköri gyártási folyamatokhoz.

ArF litográfiai gépek: Használjon 193 nm hullámhosszú fényforrást, amely nagyobb felbontást kínál a 65 nm alatti folyamattechnológiákhoz, lehetővé téve a finomabb áramkörök gyártását.

Technológiai jelentőség: Iparágfejlesztés és önellátás

Ezen litográfiai gépek kifejlesztése jelentős mérföldkövet jelent a félvezetőgyártás előmozdításában és az ipari autonómia elérésében.:

Technikai áttörések: A KrF és ArF litográfiai gépek sikeres létrehozása jelentős előrelépést jelent a csúcskategóriás litográfiai technológia terén, és robusztus műszaki támogatást nyújt a félvezetőgyártáshoz.

Ipari fejlesztés: A nagy pontosságú litográfiai gépek lehetővé teszik a bonyolultabb és nagy teljesítményű integrált áramkörök gyártását, ami az innovációt ösztönzi a teljes félvezető értékláncban.

Gazdasági és nemzetbiztonság: A külföldi technológiától való függőség csökkentésével ezek a gépek erősítik a hazai félvezetőipar önellátását, növelve a gazdasági és ipari biztonságot.

Vízhűtő A litográfiai gép stabil teljesítményének kulcsa

A litográfiai folyamat minőségének és hozamának biztosításához elengedhetetlen a pontos hőmérséklet-szabályozás. A vízhűtők, mint a hűtőrendszerek alapvető elemei, létfontosságú szerepet játszanak:

Hűtési követelmények: A litográfiai gépek rendkívül érzékenyek a hőmérséklet-ingadozásokra az expozíció során, ezért olyan vízhűtőkre van szükség, amelyek nagy pontosságú és stabil hőmérséklet-szabályozást biztosítanak.

A hűtők funkciói: A hűtővíz keringtetésével a folyadékhűtők hatékonyan elvezetik a működés során keletkező hőt, optimális hőmérsékleti tartományon belül tartva a lézerberendezést, és biztosítva a litográfiai folyamat pontosságát és megbízhatóságát.

A TEYU hűtő professzionális hűtési megoldásokat kínál litográfiai gépekhez

A TEYU CWUP sorozatú ultragyors lézeres hűtők precíz és stabil hőmérséklet-szabályozást biztosítanak litográfiai gépek számára. A CWUP-20ANP típusú hűtőberendezés hőmérsékleti stabilitást ér el ±0.08°C, ami rendkívül hatékony hűtést biztosít a precíziós gyártáshoz.

A félvezetőgyártás precíz világában a litográfiai gépek a mikroáramkör-minták átvitelének alapvető eszközei. A technológia fejlődésével a kripton-fluorid litográfiai gépek és az argon-fluorid litográfiai gépek kiváló teljesítményükkel fontos erővé váltak az iparág fejlődésének előmozdításában.