Friss hír: Az MIIT ≤8 nm-es rétegfelviteli pontosságú hazai DUV litográfiai gépeket népszerűsít

Az elmúlt hónapokban az Ipari és Információtechnológiai Minisztérium (MIIT) kiadta az „Első (készlet) főbb műszaki berendezések népszerűsítésére és alkalmazására vonatkozó irányelveket (2024-es kiadás)”. Ez utat nyit a 28 nm feletti csomópontok érett chipgyártásának teljes folyamatbeli lokalizációja előtt!

Bár a 28 nm-es technológia nem élvonalbeli, jelentős jelentőséggel bír, mivel választóvonalként szolgál az alsó-középkategóriás, valamint a közép- és felsőkategóriás chipek között. A fejlett CPU-k, GPU-k és mesterséges intelligencia chipek mellett a legtöbb ipari minőségű chip 28 nm-es vagy újabb technológiákra támaszkodik.

Működési elv: Előrelépések a mély ultraibolya litográfiában

A KrF (kripton-fluorid) és az ArF (argon-fluorid) litográfiai gépek a mély ultraibolya (DUV) litográfia kategóriájába tartoznak. Mindkettő specifikus fényhullámhosszakat használ, amelyeket optikai rendszereken keresztül vetítenek a szilíciumlap fotoreziszt rétegére, bonyolult áramköri mintákat visznek át.

KrF litográfiai gépek: 248 nm hullámhosszú fényforrást használnak, 110 nm alatti felbontást érnek el, így alkalmasak különféle integrált áramköri gyártási folyamatokhoz.

ArF litográfiai gépek: 193 nm hullámhosszú fényforrást használnak, amely nagyobb felbontást kínál a 65 nm alatti folyamattechnológiákhoz, lehetővé téve a finomabb áramkörök gyártását.

Technológiai jelentőség: Iparágfejlesztés és önellátás

Ezen litográfiai gépek kifejlesztése jelentős mérföldkövet jelent a félvezetőgyártás előmozdításában és az ipari autonómia elérésében:

Technikai áttörések: A KrF és ArF litográfiai gépek sikeres létrehozása jelentős előrelépést jelent a csúcskategóriás litográfiai technológia terén, és robusztus műszaki támogatást nyújt a félvezetőgyártáshoz.

Iparági fejlesztés: A nagy pontosságú litográfiai gépek lehetővé teszik a bonyolultabb és nagy teljesítményű integrált áramkörök gyártását, ami az innovációt ösztönzi a teljes félvezető értékláncban.

Gazdasági és nemzetbiztonság: A külföldi technológiától való függőség csökkentésével ezek a gépek erősítik a hazai félvezetőipar önellátását, növelve a gazdasági és ipari biztonságot.

Vízhűtő : A litográfiai gép stabil teljesítményének kulcsa

A pontos hőmérséklet-szabályozás elengedhetetlen a litográfiai folyamat minőségének és hozamának biztosításához. A vízhűtők, mint a hűtőrendszerek alapvető alkotóelemei, létfontosságú szerepet játszanak:

Hűtési követelmények: A litográfiai gépek rendkívül érzékenyek a hőmérséklet-ingadozásokra az expozíció során, ezért olyan vízhűtőkre van szükség, amelyek nagy pontosságú és stabil hőmérséklet-szabályozást biztosítanak.

A hűtők funkciói: A hűtővíz keringtetésével a hűtők hatékonyan elvezetik a működés során keletkező hőt, optimális hőmérsékleti tartományon belül tartva a lézerberendezést, és biztosítva a pontosságot és a megbízhatóságot a litográfiai folyamatban.

A TEYU hűtő professzionális hűtési megoldásokat kínál litográfiai gépekhez

A TEYU CWUP sorozatú ultragyors lézeres hűtők precíz és stabil hőmérséklet-szabályozást biztosítanak litográfiai gépek számára. A CWUP-20ANP hűtőmodell ±0,08°C hőmérséklet-stabilitást ér el, így rendkívül hatékony hűtést biztosít a precíziós gyártáshoz.

A félvezetőgyártás precíz világában a litográfiai gépek a mikroáramkör-minták átvitelének alapvető eszközei. A technológia fejlődésével a kripton-fluoridos litográfiai gépek és az argon-fluoridos litográfiai gépek kiváló teljesítményükkel fontos erővé váltak az iparág fejlődésének előmozdításában.