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ब्रेकिंग न्यूज़: MIIT ≤8nm ओवरले सटीकता वाली घरेलू DUV लिथोग्राफी मशीनों को बढ़ावा दे रहा है

एमआईआईटी के 2024 दिशानिर्देश 28एनएम+ चिप निर्माण के लिए पूर्ण-प्रक्रिया स्थानीयकरण को बढ़ावा देते हैं, जो एक महत्वपूर्ण तकनीकी उपलब्धि है। प्रमुख प्रगतियों में KrF और ArF लिथोग्राफी मशीनें शामिल हैं, जो उच्च परिशुद्धता वाले सर्किट को सक्षम बनाती हैं और उद्योग की आत्मनिर्भरता को बढ़ाती हैं। इन प्रक्रियाओं के लिए सटीक तापमान नियंत्रण महत्वपूर्ण है, TEYU CWUP वाटर चिलर अर्धचालक विनिर्माण में स्थिर प्रदर्शन सुनिश्चित करता है।

हाल के महीनों में, उद्योग और सूचना प्रौद्योगिकी मंत्रालय (एमआईआईटी) ने "प्रथम (सेट) प्रमुख तकनीकी उपकरणों के प्रचार और अनुप्रयोग के लिए दिशानिर्देश (2024 संस्करण)" जारी किए हैं। इससे 28nm से ऊपर के नोड्स के लिए परिपक्व चिप निर्माण की पूर्ण-प्रक्रिया स्थानीयकरण का मार्ग प्रशस्त होता है!

यद्यपि 28nm प्रौद्योगिकी अत्याधुनिक नहीं है, फिर भी यह निम्न-से-मध्यम और मध्य-से-उच्च-अंत चिप्स के बीच विभाजक रेखा के रूप में महत्वपूर्ण महत्व रखती है। उन्नत सीपीयू, जीपीयू और एआई चिप्स के अलावा, अधिकांश औद्योगिक-ग्रेड चिप्स 28 एनएम या उच्चतर प्रौद्योगिकियों पर निर्भर करते हैं।

MIIT Promotes Domestic DUV Lithography Machines with ≤8nm Overlay Accuracy

कार्य सिद्धांत: डीप अल्ट्रावायलेट लिथोग्राफी में प्रगति

KrF (क्रिप्टन फ्लोराइड) और ArF (आर्गन फ्लोराइड) लिथोग्राफी मशीनें डीप अल्ट्रावायलेट (DUV) लिथोग्राफी की श्रेणी में आती हैं। दोनों ही विशिष्ट प्रकाश तरंगदैर्घ्य का उपयोग करते हैं, जिन्हें ऑप्टिकल प्रणालियों के माध्यम से सिलिकॉन वेफर की फोटोरेजिस्ट परत पर प्रक्षेपित किया जाता है, तथा जटिल सर्किट पैटर्न को स्थानांतरित किया जाता है।

KrF लिथोग्राफी मशीनें: 248nm तरंगदैर्ध्य प्रकाश स्रोत का उपयोग करें, 110nm से नीचे के रिज़ॉल्यूशन प्राप्त करें, विभिन्न एकीकृत सर्किट विनिर्माण प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त।

एआरएफ लिथोग्राफी मशीनें: 193nm तरंगदैर्ध्य वाले प्रकाश स्रोत का उपयोग करें, जो 65nm से कम की प्रक्रिया प्रौद्योगिकियों के लिए उच्चतर रिज़ॉल्यूशन प्रदान करता है, जिससे बेहतर सर्किट का निर्माण संभव हो पाता है।

तकनीकी महत्व: उद्योग उन्नयन और आत्मनिर्भरता

इन लिथोग्राफी मशीनों का विकास अर्धचालक विनिर्माण को आगे बढ़ाने और औद्योगिक स्वायत्तता प्राप्त करने में एक प्रमुख मील का पत्थर है:

तकनीकी सफलताएँ: KrF और ArF लिथोग्राफी मशीनों का सफल निर्माण उच्च स्तरीय लिथोग्राफी प्रौद्योगिकी में महत्वपूर्ण प्रगति को दर्शाता है, जो अर्धचालक विनिर्माण के लिए मजबूत तकनीकी सहायता प्रदान करता है।

उद्योग उन्नयन: उच्च परिशुद्धता लिथोग्राफी मशीनें अधिक जटिल और उच्च प्रदर्शन वाले एकीकृत सर्किट के उत्पादन को सक्षम बनाती हैं, जिससे संपूर्ण अर्धचालक मूल्य श्रृंखला में नवाचार को बढ़ावा मिलता है।

आर्थिक और राष्ट्रीय सुरक्षा: विदेशी प्रौद्योगिकी पर निर्भरता कम करके, ये मशीनें घरेलू अर्धचालक उद्योग की आत्मनिर्भरता को मजबूत करती हैं, तथा आर्थिक और औद्योगिक सुरक्षा को मजबूत करती हैं।

वाटर चिलर : स्थिर लिथोग्राफी मशीन प्रदर्शन की कुंजी

लिथोग्राफी प्रक्रिया की गुणवत्ता और उपज सुनिश्चित करने के लिए सटीक तापमान नियंत्रण आवश्यक है। शीतलन प्रणालियों के मुख्य घटक के रूप में जल चिलर एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं:

शीतलन आवश्यकताएँ: लिथोग्राफी मशीनें एक्सपोजर के दौरान तापमान में उतार-चढ़ाव के प्रति अत्यधिक संवेदनशील होती हैं, जिसके लिए जल चिलर की आवश्यकता होती है, जो अत्यधिक सटीक और स्थिर तापमान नियंत्रण प्रदान करते हैं।

चिलर के कार्य: शीतलन जल को प्रसारित करके, चिलर परिचालन के दौरान उत्पन्न ऊष्मा को प्रभावी ढंग से नष्ट कर देते हैं, लेजर उपकरण को इष्टतम तापमान सीमा के भीतर बनाए रखते हैं और लिथोग्राफी प्रक्रिया में सटीकता और विश्वसनीयता सुनिश्चित करते हैं।

Ultrafast laser chiller CWUP-20ANP with 0.08℃ stability

TEYU चिलर लिथोग्राफी मशीनों के लिए पेशेवर शीतलन समाधान प्रदान करता है

TEYU CWUP श्रृंखला अल्ट्राफास्ट लेजर चिलर लिथोग्राफी मशीनों के लिए सटीक और स्थिर तापमान नियंत्रण प्रदान कर सकते हैं। The चिलर मॉडल CWUP-20ANP तापमान स्थिरता प्राप्त करता है ±0.08°सी, परिशुद्ध विनिर्माण के लिए अत्यधिक कुशल शीतलन प्रदान करता है।

अर्धचालक विनिर्माण की सटीक दुनिया में, लिथोग्राफी मशीनें माइक्रोसर्किट पैटर्न के हस्तांतरण के लिए मुख्य उपकरण हैं। प्रौद्योगिकी की प्रगति के साथ, क्रिप्टन फ्लोराइड लिथोग्राफी मशीन और आर्गन फ्लोराइड लिथोग्राफी मशीन अपने उत्कृष्ट प्रदर्शन के साथ उद्योग के विकास को बढ़ावा देने के लिए एक महत्वपूर्ण शक्ति बन गई हैं।

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