I nā mahina i hala iho nei, ua hoʻopuka ka Ministry of Industry and Information Technology (MIIT) i ka "Alakaʻi no ka hoʻolaha ʻana a me ka hoʻohana ʻana i nā mea hana mua (Set) Major Technical Equipment (2024 Edition)". Hāʻawi kēia i ke ala no ka hoʻokō piha ʻana o ka hana ʻana i nā chip nodes ma luna o 28nm!
ʻOiai ʻaʻole ʻoki ʻia ka ʻenehana 28nm, paʻa ia i ka mea koʻikoʻi e like me ka laina hoʻokaʻawale ma waena o nā pahu haʻahaʻa a i waena a me waena o nā pahu kiʻekiʻe. Ma waho aʻe o nā CPU kiʻekiʻe, GPU, a me AI chips, hilinaʻi ka hapa nui o nā pahu hana ʻenehana i 28nm a i ʻole nā ʻenehana kiʻekiʻe.
![MIIT Promotes Domestic DUV Lithography Machines with ≤8nm Overlay Accuracy]()
Ke Kumu Hana: Nā holomua i ka Deep Ultraviolet Lithography
KrF (Krypton Fluoride) a me ArF (Argon Fluoride) lithography mīkini hāʻule ma lalo o ka waeʻano o Deep Ultraviolet (DUV) lithography. Hoʻohana lāua ʻelua i nā lōʻihi hawewe māmā i kuhi ʻia ma nā ʻōnaehana optical ma luna o ka papa photoresist o kahi wafer silika, e hoʻololi ana i nā ʻano kaapuni paʻakikī.
KrF Lithography Machines:
E hoʻohana i kahi kumu kukui hawewe lōʻihi 248nm, e loaʻa ana i nā hoʻoholo ma lalo o 110nm, kūpono no nā kaʻina hana kaʻapuni hoʻohui like ʻole.
ArF Lithography Machines:
E hoʻohana i kahi kumu kukui hawewe lōʻihi 193nm, e hāʻawi ana i ka hoʻonā kiʻekiʻe no nā ʻenehana kaʻina sub-65nm, e hiki ai ke hana i nā kaapuni ʻoi aku ka maikaʻi.
Koikoʻi ʻenehana: Hoʻonui i ka ʻoihana a me ka hilinaʻi ponoʻī
ʻO ka hoʻomohala ʻana o kēia mau mīkini lithography e hōʻailona i kahi mea nui i ka holomua ʻana i ka hana semiconductor a me ka loaʻa ʻana o ka ʻoihana kūʻokoʻa.:
Nā Kūlana ʻenehana:
ʻO ka hana kūleʻa o nā mīkini lithography KrF a me ArF e hōʻike ana i ka holomua nui i ka ʻenehana lithography kiʻekiʻe, e hāʻawi ana i ke kākoʻo ʻenehana ikaika no ka hana semiconductor.
Hoʻonui ʻoihana:
Hiki i nā mīkini lithography kiʻekiʻe ke hana i nā kaapuni hoʻohui ʻoi aku ka paʻakikī a me ka hana kiʻekiʻe, e hoʻokau i nā mea hou ma waena o ke kaulahao waiwai semiconductor holoʻokoʻa.
Hoʻokele waiwai a me ka National Security: Ma ka hōʻemi ʻana i ka hilinaʻi ʻana i ka ʻenehana ʻē aʻe, hoʻoikaika kēia mau mīkini i ka pono ponoʻī o ka ʻoihana semiconductor home, e hoʻoikaika ana i ka palekana waiwai a me ka ʻoihana.
Mea hoʻoheheʻe wai
: Ke Ki i ka Hana Mīkini Lithography Stable
Pono pono ke kaohi ana i ka wela no ka hooiaio ana i ka maikai a me ka hua o ka hana lithography. ʻO nā mea hoʻoheheʻe wai, ma ke ʻano he mea koʻikoʻi o nā ʻōnaehana hoʻomaha, he hana koʻikoʻi:
Koi hooluolu:
Pilikia loa nā mīkini lithography i ka loli ʻana o ka mahana i ka wā o ka hoʻolaha ʻana, pono i nā mea hoʻoheheʻe wai e hāʻawi i ka hoʻokele wela kūpono a paʻa.
Nā hana o nā Chillers:
Ma ke kaapuni ʻana i ka wai hoʻoluʻu, hoʻopau pono nā chillers i ka wela i hana ʻia i ka wā o ka hana, mālama i nā mea laser i loko o kahi pae wela maikaʻi loa a me ka hōʻoia ʻana i ka pololei a me ka hilinaʻi i ke kaʻina lithography.
![Ultrafast laser chiller CWUP-20ANP with 0.08℃ stability]()
Hāʻawi ʻo TEYU Chiller i nā ʻenehana hoʻoluʻu ʻoihana no nā mīkini lithography
Hiki i ka TEYU CWUP series ultrafast laser chillers ke hāʻawi i ka mana wela kūpono a paʻa no nā mīkini lithography. ʻO ka
kumu hoʻohālike chiller CWUP-20ANP
loaʻa ka paʻa wela o ±0.08°C, hāʻawi i ka hoʻoluʻu maikaʻi loa no ka hana pololei.
I ka honua pololei o ka hana semiconductor, ʻo nā mīkini lithography nā mea koʻikoʻi no ka hoʻololi ʻana i nā ʻano microcircuit. Me ka holomua o ka ʻenehana, ua lilo ka mīkini krypton fluoride lithography a me ka mīkini lithography argon fluoride i mea koʻikoʻi e hāpai i ka hoʻomohala ʻana o ka ʻoihana me kā lākou hana maikaʻi loa.