Breaking News: MIIT fërdert national DUV Lithographiemaschinnen mat ≤8nm Overlay Genauegkeet

An de leschte Méint huet de Ministère fir Industrie an Informatiounstechnologie (MIIT) d'"Richtlinne fir d'Promotioun an d'Uwendung vun der éischter (Set) grousser technescher Ausrüstung (Editioun 2024)" erausginn. Dëst mécht de Wee fräi fir eng komplett Lokaliséierung vun der Produktioun vu reife Chips fir Knuet iwwer 28nm!

Och wann d'28nm-Technologie net modern ass, spillt se eng grouss Roll als Trennlinn tëscht Chips aus dem Low-to-Mid-End- a Mid-to-High-End-Beräich. Nieft fortgeschrattene CPUs, GPUs an AI-Chips baséieren déi meescht Chips vun industrieller Qualitéit op 28nm- oder méi héijer Technologien.

Funktionsprinzip: Fortschrëtter an der déiwer Ultraviolett-Lithographie

KrF (Kryptonfluorid) an ArF (Argonfluorid) Lithographiemaschinne falen ënner d'Kategorie vun der Déif-Ultraviolett (DUV) Lithographie. Béid benotzen spezifesch Liichtwellelängten, déi duerch optesch Systemer op d'Photoresistschicht vun engem Siliziumwafer projetéiert ginn, wouduerch komplex Schaltkreesser iwwerdroe ginn.

KrF Lithographiemaschinnen: Benotzt eng Liichtquell mat enger Wellelängt vun 248 nm, déi Opléisunge vun ënner 110 nm erreecht a fir verschidde Prozesser vun der Fabrikatioun vun integréierte Schaltungen gëeegent ass.

ArF-Lithographiemaschinnen: Benotzt eng Liichtquell mat enger Wellelängt vun 193 nm, déi eng méi héich Opléisung fir Prozesstechnologien ënner 65 nm bitt, wat d'Fabrikatioun vu méi feine Schaltungen erméiglecht.

Technologesch Bedeitung: Industrieopwäertung a Selbstversuergung

D'Entwécklung vun dëse Lithographiemaschinne markéiert e wichtege Meilesteen an der Entwécklung vun der Hallefleederproduktioun an der Erreeche vun industrieller Autonomie:

Technesch Duerchbréch: Déi erfollegräich Kreatioun vu KrF- an ArF-Lithographiemaschinne weist bedeitende Fortschrëtt an der High-End-Lithographietechnologie ënnersträicht a bitt eng robust technesch Ënnerstëtzung fir d'Hallefleederproduktioun.

Industrie-Upgrade: Héichpräzis Lithographie-Maschinnen erméiglechen d'Produktioun vu méi komplexen an héichperformante integréierte Schaltungen, wat Innovatioun an der ganzer Wäertkette fir Hallefleeder ugedriwwen huet.

Wirtschaftlech a national Sécherheet: Andeems se d'Ofhängegkeet vun auslännescher Technologie reduzéieren, stäerken dës Maschinnen d'Selbstversuergung vun der nationaler Hallefleiterindustrie a stäerken doduerch d'wirtschaftlech an industriell Sécherheet.

Waasserkillmaschinn : De Schlëssel zu enger stabiler Leeschtung vun der Lithographiemaschinn

Eng präzis Temperaturkontroll ass essentiell fir d'Qualitéit an den Ertrag vum Lithographieprozess ze garantéieren. Waasserkillmaschinnen, als Kärkomponente vu Killsystemer, spillen eng wichteg Roll:

Killungsufuerderungen: Lithographiemaschinne si ganz empfindlech op Temperaturschwankungen während der Beliichtung, soudatt Waasserkillmaschinne gebraucht ginn, déi eng héich präzis a stabil Temperaturkontroll garantéieren.

Funktioune vun de Killanlagen: Duerch d'Zirkulatioun vu Killwaasser verdeelen d'Kühlanlagen effektiv d'Hëtzt, déi während dem Betrib generéiert gëtt, wouduerch d'Laserarmatur an engem optimale Temperaturberäich gehale gëtt a Genauegkeet a Zouverlässegkeet am Lithographieprozess garantéiert gëtt.

TEYU Chiller bitt professionell Killléisungen fir Lithographiemaschinnen

Ultraschnell Laser-Kühlmaschinne vun der TEYU CWUP Serie kënnen eng präzis a stabil Temperaturkontroll fir Lithographiemaschinne bidden. De Killmaschinnmodell CWUP-20ANP erreecht eng Temperaturstabilitéit vun ±0,08°C a liwwert doduerch eng héicheffizient Ofkillung fir Präzisiounsproduktioun.

An der präziser Welt vun der Hallefleederproduktioun sinn Lithographiemaschinnen déi zentral Geräter fir den Transfer vu Mikroschaltkreesmuster. Mat dem Fortschrëtt vun der Technologie sinn Kryptonfluorid-Lithographiemaschinnen an Argonfluorid-Lithographiemaschinnen zu enger wichteger Kraaft ginn, fir d'Entwécklung vun der Industrie mat hirer exzellenter Leeschtung ze fërderen.