loading

Срочные новости: МИИТ продвигает отечественные машины для литографии методом DUV с точностью наложения ≤8 нм

Руководящие принципы МИИТ на 2024 год предусматривают полную локализацию процесса производства микросхем с нормами 28 нм и выше, что является важнейшей технологической вехой. К числу основных достижений относится литографическое оборудование KrF и ArF, позволяющее создавать высокоточные схемы и повышающее самодостаточность отрасли. Для этих процессов критически важен точный контроль температуры, а охладители воды TEYU CWUP обеспечивают стабильную работу в производстве полупроводников.

В последние месяцы Министерство промышленности и информационных технологий (МИИТ) опубликовало «Руководящие принципы по продвижению и применению первого (комплекта) крупного технического оборудования (издание 2024 года)». Это открывает путь к полной локализации процесса производства зрелых чипов для узлов выше 28 нм!

Хотя технология 28 нм не является передовой, она играет важную роль в качестве разделительной линии между чипами начального и среднего класса, а также чипами среднего и высокого класса. Помимо современных центральных процессоров, графических процессоров и чипов искусственного интеллекта, большинство промышленных чипов используют технологии 28 нм и выше.

MIIT Promotes Domestic DUV Lithography Machines with ≤8nm Overlay Accuracy

Принцип работы: Достижения в области глубокой ультрафиолетовой литографии

Литографические машины на основе KrF (фторида криптона) и ArF (фторида аргона) относятся к категории литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). Оба используют определенные длины волн света, проецируемые через оптические системы на фоторезистивный слой кремниевой пластины, перенося сложные схемы.

Литографические машины KrF: Используйте источник света с длиной волны 248 нм, достигая разрешения ниже 110 нм, подходящего для различных процессов производства интегральных схем.

Литографические машины ArF: Используйте источник света с длиной волны 193 нм, обеспечивающий более высокое разрешение для технологических процессов с нормами менее 65 нм, что позволяет изготавливать более тонкие схемы.

Технологическое значение: модернизация отрасли и самодостаточность

Разработка этих литографических машин знаменует собой важную веху в развитии производства полупроводников и достижении промышленной автономии.:

Технические прорывы: Успешное создание литографических машин KrF и ArF свидетельствует о значительном прогрессе в технологии литографии высокого класса, обеспечивая надежную техническую поддержку для производства полупроводников.

Модернизация отрасли: Высокоточные литографические машины позволяют производить более сложные и высокопроизводительные интегральные схемы, стимулируя инновации по всей цепочке создания стоимости полупроводников.

Экономическая и национальная безопасность: снижая зависимость от иностранных технологий, эти машины укрепляют самодостаточность отечественной полупроводниковой промышленности, укрепляя экономическую и промышленную безопасность.

Охладитель воды : ключ к стабильной работе литографической машины

Точный контроль температуры имеет решающее значение для обеспечения качества и производительности процесса литографии. Водоохладители, как основные компоненты систем охлаждения, играют важную роль:

Требования к охлаждению: Литографические машины чрезвычайно чувствительны к колебаниям температуры во время экспонирования, поэтому для них необходимы водяные охладители, обеспечивающие высокоточный и стабильный контроль температуры.

Функции чиллеров: Благодаря циркуляции охлаждающей воды охладители эффективно рассеивают тепло, выделяемое во время работы, поддерживая лазерное оборудование в оптимальном диапазоне температур и обеспечивая точность и надежность процесса литографии.

Ultrafast laser chiller CWUP-20ANP with 0.08℃ stability

TEYU Chiller предлагает профессиональные решения по охлаждению для литографических машин

Сверхбыстрые лазерные охладители серии TEYU CWUP обеспечивают точный и стабильный контроль температуры для литографических машин. The модель чиллера CWUP-20ANP достигает температурной стабильности ±0.08°C, обеспечивающий высокоэффективное охлаждение для точного производства.

В прецизионном мире производства полупроводников литографические машины являются основными устройствами для переноса рисунков микросхем. С развитием технологий машины для литографии на основе фторида криптона и фторида аргона стали важной движущей силой, способствующей развитию отрасли, благодаря своим превосходным эксплуатационным характеристикам.

предыдущий
Применение лазерных технологий в производстве складных смартфонов
Роль лазерных технологий в сельском хозяйстве: повышение эффективности и устойчивости
следующий

Мы здесь для вас, когда вы нуждаетесь в нас.

Пожалуйста, заполните форму, чтобы связаться с нами, и мы будем рады вам помочь.

Авторские права © 2025 TEYU S&Чиллер | Карта сайта     Политика конфиденциальности
Связаться с нами
email
Свяжитесь с обслуживанием клиентов
Связаться с нами
email
Отмена
Customer service
detect