Срочные новости: МИИТ продвигает отечественные машины для литографии методом DUV с точностью наложения ≤8 нм

В последние месяцы Министерство промышленности и информационных технологий (МИИТ) опубликовало «Руководящие принципы по продвижению и применению первого (набора) крупного технического оборудования (издание 2024 года)». Это открывает путь к полной локализации технологического процесса производства зрелых микросхем с нормами выше 28 нм!

Хотя 28-нм технология не является передовой, она играет важную роль в качестве разделителя между чипами начального и среднего уровня, а также чипами среднего и высокого уровня. Помимо современных процессоров, графических процессоров и чипов для искусственного интеллекта, большинство промышленных чипов используют 28-нм или более высокие технологии.

Принцип работы: Достижения в области глубокой ультрафиолетовой литографии

Литографические установки на основе KrF (фторида криптона) и ArF (фторида аргона) относятся к категории глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV). Оба используют свет определённой длины волны, проецируемый через оптическую систему на фоторезистивный слой кремниевой пластины, перенося сложные схемы.

Литографические машины KrF: используют источник света с длиной волны 248 нм, обеспечивая разрешение ниже 110 нм, что подходит для различных процессов производства интегральных схем.

Литографические машины ArF: используют источник света с длиной волны 193 нм, обеспечивая более высокое разрешение для технологических процессов с нормами менее 65 нм, что позволяет изготавливать более тонкие схемы.

Технологическое значение: модернизация отрасли и самодостаточность

Разработка этих литографических машин знаменует собой важную веху в развитии производства полупроводников и достижении промышленной автономии:

Технические прорывы: Успешное создание литографических машин KrF и ArF демонстрирует значительный прогресс в технологии литографии высокого класса, обеспечивая надежную техническую поддержку для производства полупроводников.

Модернизация отрасли: высокоточные литографические машины позволяют производить более сложные и высокопроизводительные интегральные схемы, стимулируя инновации по всей цепочке создания стоимости полупроводников.

Экономическая и национальная безопасность: снижая зависимость от иностранных технологий, эти машины укрепляют самодостаточность отечественной полупроводниковой промышленности, укрепляя экономическую и промышленную безопасность.

Вода Чиллер : ключ к стабильной работе литографической машины

Точный контроль температуры необходим для обеспечения качества и производительности процесса литографии. Охладители воды, являясь основными компонентами систем охлаждения, играют важную роль:

Требования к охлаждению: Литографические машины чрезвычайно чувствительны к колебаниям температуры во время экспонирования, поэтому для них необходимы водяные охладители, обеспечивающие высокоточный и стабильный контроль температуры.

Функции охладителей: Благодаря циркуляции охлаждающей воды охладители эффективно рассеивают тепло, выделяемое во время работы, поддерживая лазерное оборудование в оптимальном диапазоне температур и обеспечивая точность и надежность процесса литографии.

TEYU Чиллер Предлагаем профессиональные решения по охлаждению для литографических машин

Сверхбыстрые лазерные охладители серии TEYU CWUP обеспечивают точное и стабильное регулирование температуры для литографических машин. Модель CWUP-20ANP охладитель обеспечивает стабильность температуры ±0,08 °C, обеспечивая высокоэффективное охлаждение для прецизионного производства.

В прецизионном производстве полупроводников литографические машины являются ключевыми устройствами для переноса изображений на микросхемы. С развитием технологий литографические машины на основе фторида криптона и фторида аргона стали важным фактором, способствующим развитию отрасли благодаря своим превосходным характеристикам.